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无锡卷绕镀膜机选型 服务为先 无锡光润真空科技供应

信息介绍 / Information introduction

一般蒸镀室要达到的真空度为1x10^-3人a—2×10^-3人a,而工作压力为1×10^-2Pa—2×10^-2Pa,而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵(油扩散泵的一种)为主泵,它的极限压力虽然不及油扩散泵,但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级,非常适宜此类蒸发的镀膜过程。目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kW—8kW,加热电压为10V—12V,无锡卷绕镀膜机选型。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多,无锡卷绕镀膜机选型。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚,无锡卷绕镀膜机选型。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的较外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。 卷绕镀膜机的蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。无锡卷绕镀膜机选型

真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方式,真空镀膜应用属于一种干式镀膜。 真空蒸镀,其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。 溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000V高压电,激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。无锡卷绕镀膜机选型卷绕镀膜机应提高卷绕速度的问题。

目前我国多弧离子镀膜机企业在优良产品系列尚无法与国外产品竞争,在国际上有名度不高。国内多弧离子镀膜机的生产厂家,主要考虑的是国内的中、低端市场,采用设备的性能和可靠性的低价策略来赢得市场,生产经营也缺乏对设备研制的能力和将技术研发付诸于实施的中长期规划。未来五年,国际厂商不断进入,国内多弧离子镀膜机行业的整合趋势势必加剧,行业竞争愈发激烈,企业生存要受到来自多方面的的挑战。材料是现代高新技术和产业的基础与先导,是高新技术取得突破的前提条件。真空离子镀膜设备工作时往往温度较高,甚至可以达到350到500摄氏度,要求设备制造材料有耐高温和较强度特性。

塑料与金属镀层间的附着性差首先是由于塑料的表面能一般都比较低,表面极性差;其次塑料易带静电,表面容易吸附灰尘,同时塑料零件又软,化学稳定性差,不易得到真正清洁的表面,而塑料表面的清洁度是影响塑料与金属镀层间附着力的重要因素。第三,即使保持了塑料表面的清洁,由于塑料与金属的膨胀系数相差一个数量级,在成膜过程中或成膜后,温度变化会产生热应力,应力过大将会使镀层开裂甚至脱落。此外,由于沉积过程中金属膜结构受到工艺等因素的影响致使其内部产生一定的内应力,当内应力很大时,膜料沉积到塑料表面后,内应力会转移到金属镀层上来,从而降低镀层的稳定性,甚至使镀层开裂、起皱。为解决金属镀层与塑料基体的结合问题,保证镀层与塑料表面具有良好结合力,真空镀膜时,采用在塑料表面涂上与镀膜金属有亲和力的底涂层,或者对塑料表面进行电晕放电活化处理。卷绕镀膜机对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。

柔性卷绕镀膜采用平整度在线控制装置可以直接在线实时对角度的控制,保证镀膜时膜面平整、收卷整齐、平整;特别是针对PET基材厚度小于50 µm的薄膜进行使用时,能有效地降低产品褶皱的产生,提高产品的良品率,目前已经在产线进行实际使用。在真空中制备膜层,包括被制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜,虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜的多功能性也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min。盐城卷绕镀膜机哪家专业

卷绕镀膜机可以蒸镀放气量较大的纸基材,并能保障镀膜质量。无锡卷绕镀膜机选型

蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。无锡卷绕镀膜机选型

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