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连云港卷绕镀膜机厂家定制 推荐咨询 无锡光润真空科技供应

信息介绍 / Information introduction

卷绕式镀膜机30年来有了较大的发展,镀膜产品普遍用于装饰、包装、电容器等领域中,可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE,连云港卷绕镀膜机厂家定制、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%~2%,纸含水量更大,连云港卷绕镀膜机厂家定制,一般为5%-7%,连云港卷绕镀膜机厂家定制,经涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍,其优点是:①可以蒸镀放气量较大的纸基材,并能保障镀膜质量。纸放出的大量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中;②单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力,而双室结构中的蒸镀室气体量较小,可配小型抽气机组,使设备成本降低,并节约能源;③卷绕室与蒸镀室分别抽气,可缩短抽气时间。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min。连云港卷绕镀膜机厂家定制

由于溅射原子能量比蒸发原子能量高1~2个数量级,高能量的溅射原子沉积在基体时转换的能量多,甚至可发生部分注入现象,同时溅射成膜过程中,基体始终在等离子区中被清洗和启用,因此溅射镀膜与塑料表面的附着力要比蒸发镀膜好,膜层致密、均匀,如配合适当的工件转动,可在复杂表面上获得较均匀的镀层离子镀膜是蒸发工艺与溅射技术的结合,它是在镀膜的同时采用荷能离子轰击工件表面和膜层,使得镀膜层和基体结合力好,不易脱落。由于金属原子的能量低于蒸镀时的能量,即使是耐热性较差的塑料,在其表面也可生成稳定性良好的金属薄膜。镇江卷绕镀膜机怎么卖由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中。

磁控卷绕镀膜设备,该设备所有系统高度集成、结构紧凑,基片实现自动卷绕运转,膜层紧密均匀,自动化程度高,操作简单灵活,性能稳定。可在幅宽1100MM的PET卷材上连续镀制一层或多层膜,可以是金属膜,介质膜,也可以是这两类膜的组合。真空镀膜的运作原理:物理的气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

目前,电子束卷绕真空镀膜技术在民用领域主要还是用来生产透明阻隔包装用途的镀氧化硅和氧化铝透明阻隔膜。据了解,国外有厂家采用镀氧化硅和氧化铝混合膜,来改进透明阻隔膜对氧气和水蒸气的阻隔性能,并更好地适应后道加工的工艺要求。近年来,国内已经有好几家公司开始生产氧化铝透明阻隔膜并供应市场,但基本上都是采用蒸发镀铝加上充氧气形成镀氧化铝膜的工艺。综观我国透明阻隔材料的开发及其包装薄膜生产工艺技术的发展状况,个人认为,近年来,随着世界各国对环境保护的重视,提高了对包装材料的环境保护要求,在焚烧时有处理残滓的铝箔、在焚烧时会产生二噁英的聚偏二氯乙烯(PVDC)等有污染环境问题的包装材料正在被控制使用。 虽然比蒸发卷绕镀膜技术起步晚,但发展极为迅速,在未来的高科技领域和环保节能领域将大有可为。

塑料材料中含有空气、残留溶剂、水分、增塑剂等,在真空条件下上述一种或多种成分放出,都会使真空度下降,延长抽真空时间,影响整个镀膜效果,严重的甚至使真空镀膜操作难于进行。而且不同种类、不同生产厂家制造的塑料材料,含气量是不一致的,即使同一种塑料,其放气特性在每次蒸镀时也可能有差别,这将给塑料真空镀膜造成极大困难。为了在塑料表面获得理想的镀膜层,较常用的方法是选择适当的涂料将塑料表面封闭,减少真空状态下的放气量,或者采用双室真空装置,提高抽气效率。目前,离子轰击以及真空加热烘烤这2种除气方法的应用也已经相当普遍。 卷绕镀膜机的蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。连云港卷绕镀膜机厂家定制

卷绕镀膜机可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。连云港卷绕镀膜机厂家定制

蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。连云港卷绕镀膜机厂家定制

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