以PVA膜染色方法划分,偏光片有碘染色法和染料染色法两种工艺。碘染色法是指在偏光片染色、拉伸过程中,使用碘和碘化钾作为二向性介质使PVA膜产生极性化偏光特性。优点是比较容易获得99.9%以上的高偏光度和42%以上高透过率的偏光特性。所以在早期的偏光材料产品或需要高偏光,江苏光学膜配向角测量仪、高透过特性的偏光材料产品中大多都采用碘染色工艺进行加工。但这种工艺的不足之处就是由于碘的分子结构在高温高湿的条件下易于破坏,因此使用碘染色工艺生产的偏光片耐久性较差,一般只能满足干温:80℃×500HR,湿热:60℃×90%RH×500HR以下的工作条件使用。但随着LCD产品范围的扩大,对偏光产品的湿热工作条件的要求越来越苛刻,已经出现在100℃和90%RH条件下工作的偏光片需求。对这种要求,江苏光学膜配向角测量仪,碘染色工艺就无能为力了,江苏光学膜配向角测量仪。轴角度精度:±0.05°(精度业内比较高)。江苏光学膜配向角测量仪
起偏振片保护膜用于保护偏振片(polarizing film)。在偏振片的两面提供 起偏振片保护膜以形成起偏振片。至今,通过光学补偿膜改善液晶显示器 的显示质量,该光学补偿膜是具有光学延迟膜的视角补偿膜。**近,光学 延迟膜的功能已被加入到起偏振片保护膜中。结果,起偏振片保护膜成为 多功能的,这导致部件的减少。
对于液晶显示器的显示质量,视角的补偿被改善。通过在扭曲向列(TN) 型液晶元件的两面提供盘状(discotic)液晶膜来改善液晶元件的视角特性 江苏配向角测量仪质量保证此光轴跟基方向呈现吸收状态(透光率比较低)。
—种偏振片,其特征在于,在聚乙烯醇系偏振膜的至少单面上, 介由粘合剂层层合有保护膜而成,上述粘合剂层由放射线固化性组合物 的固化物形成,所述放射线固化性组合物包含(A)脂环式环氧化合物 以及(C)下述式(4)表示的光致酸发生剂。
[R7aR8bR9cR10dZ] +PF6- (4)(式中,阳离子为锚离子,Z表示S、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、 I、Br、Cl或N三N, R\ R8. R,和R】。表示相互相同或不同的有机基团。 a、b、c和d分别为0~3的整数,(a + b + c + d - 1)等于Z的价数。)
一种长的起偏振片,包括至少一个偏振薄膜,所述薄膜具有: 偏振性能;和
与纵向既不平行也不垂直的吸收轴,
其中所述长的起偏振片在550 nm下具有80%或更大的偏振度, 在550 ran下具有35%或更大的单片透射比,具有1 m或更长的纵向 长度,并且
所述长的起偏振片为卷状,具有3圈或更多圈。
一种长的起偏振片,包括至少一个偏振薄膜,所述薄膜具有: 偏振性能;和
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与所述长的起偏振片的纵向垂直的工作宽度是650 nm或更大。 专业性:光学博士团队合力研发,追求国产替代。
制造偏振片时,由于使一方保护膜具有吸收紫外线的性质,因此粘 合剂的固化通过从偏振片单侧的光照射来进行。使用SbF6-等其它阴离 子种类的光致酸发生剂的粘合剂虽然可以得到充分的粘合力,但固化速 度快。因此,在作为偏振片的粘合剂使用时,因起偏振器吸收光等原因, 2层粘合剂层的固化速度容易产生差异。与此相对,认为使用以PI;「作 为阴离子的光致酸发生剂时,由于固化速度适度,因此2层粘合剂层的 固化速度的差异变小,结果使翘曲变小。
此外,可以使用具有通式[MXq(OH)]表示的阴离子的锚盐。还可以 使用具有高氯酸根离子(CIO/)、三氟甲磺酸根离子(CF3S()3「)、氟磺 酸根离子(FSO3 ).甲苯磺酸根离子、三硝基苯磺酸根阴离子、**磺酸根阴离子等其它阴离子的镯盐。 配向角测试仪:KOBRA配向角测试仪。江苏光学膜配向角测量仪
测量波段可升级为380nm~780nm。江苏光学膜配向角测量仪
光学各向异性纤维素酯薄膜推荐具有_50至50 ran,更推荐-20至 20 nm的Re延迟值。
各向异性纤维素酯薄膜的Rth延迟值推荐是60-1,000 nm。
平面内的延迟值(Re)是平面内的双折射和薄膜厚度的乘积,并且 沿厚度的延迟值(Rth)是厚度方向的双折射与薄膜厚度的乘积。具体的 Re值可以通过将入射光(例如,从He-Ne激光器[波长:632.8 nm]发 出的光线)垂直施加到薄膜表面上的测定获得,并且具体的Rth值可 以通过入射光(例如,从He-Ne激光器[波长:632.8 nm]发出的光线) 倾斜施加到薄膜表面上的测定获得。在该测定中,使用偏振光椭圆率 测量仪(例如,M-150, JASCO公司)获得数据,然后外推得到这些延 迟值。
分别根据下式(1)和(2)计算平面内(Re)和沿厚度(Rth)的延迟值。
(1) Re = (nx-ny) x d
(2) Rth = [{(nx+ny)/2}-nz] x d。
在这些式中,nx是沿薄膜平面的慢轴的折光率,ny是沿薄膜平 面的快轴的折光率,nz是薄膜厚度方向的折光率,并且d是以nm计 的薄膜厚度。
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