>> 当前位置:首页 - 产品 - 金华卷绕镀膜机设备 客户至上 无锡光润真空科技供应

金华卷绕镀膜机设备 客户至上 无锡光润真空科技供应

信息介绍 / Information introduction

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击回体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上,金华卷绕镀膜机设备,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同,金华卷绕镀膜机设备,金华卷绕镀膜机设备。直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min。金华卷绕镀膜机设备

在国内外的包装材料工业、印刷材料工业、纺织工业、电子工业等领域得到普遍的应用,其各种形式的金属化薄膜,用于软包装材料、食品和的包装、工艺美术装璜用的电化铝、服装装饰用的金银丝,高级包装和装饰性保护薄膜,绝缘材料上形成的抗静电层,电缆电线的屏蔽层,丝网印刷和装饰的本底,阳光反射膜,贴墙纸,微波包装,反射路标以及转移镀膜工艺用的PET和OPP的金属化等,随着新技术的迅速发展和应用,其实际的用途还在不断增加。根据试验工艺进行了膜层溅射,溅射后测定成品膜透过率为87.2%,面电阻72 Ω/□,满足行业一般要求,因触摸屏实际使用可能会遇到不同的环境条件,产品遇到高温、低温、高低温冲击等恶劣环境,完全模拟现实条件需要的时间很长,不利于产品的及时推广,因此一般采取实验室测试的方法,结合行业经验对开发产品进行可靠性进行测试。金华卷绕镀膜机设备目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。

目前柔性透明导电薄膜沉积技术由于其超薄、可弯折的特性已经在触摸屏行业普遍推广,柔性透明导电膜主要是通过卷绕镀膜设备镀制,柔性透明导电薄膜基材都是PET等柔性材料。现在电子产品对轻、薄的要求越来越高,这就增加了卷对卷生产中比较薄的PET(23 µm厚度以下)平整度控制难度,故设计出一种柔性卷绕镀膜中薄膜平整度在线控制的装置。 真空卷绕磁控溅射技术特点 :①沉积速度快、基材温升低、对膜层的损伤小;②溅射所获得的薄膜与基片结合较好;③溅射所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好;④溅射工艺可重复性好,可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜等。

我国的多弧离子镀膜机行业企业主要为私营为主,其次是国有企业和外商和港澳台投资企业,市场竞争激烈。经过近 5 年来激烈的市场竞争,一批具有较高技术水平和一定生产规模的民营多弧离子镀膜机企业,在市场经济的大潮中突显,占据较大的市场份额。卷绕镀膜是应用物理的气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术。在柔性基体表面镀膜有两种功用:一是功能性,二是装饰性。所谓装饰性就是利用各种金属和光学膜的光泽和颜色使其更加美观大方、经久耐用,扩大了其使用范围。如在塑料表面镀金属和介质膜可使塑料具有强烈的金属或介质反光层,制成反光镜、辐射散热器(如镀银、铬、介质膜);也可使塑料获得类似金属制品的外观,进行装饰(如镀锡、铝、铬等)。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小,使放出来的气体不易进入蒸镀室中。

蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。卷绕镀膜机的镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。金华卷绕镀膜机设备

卷绕镀膜机对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。金华卷绕镀膜机设备

塑料表面金属化将改善塑料的表面性质,使其具有塑料和金属两者的独特功能,真空镀膜法是在高真空状态下,以分子或原子形态沉积在塑料表面形成一薄层金属膜,是塑料表面金属化有效的手段之一。真空镀膜的运作原理:物理的气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。真空镀膜常用的方法有真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜3种。金华卷绕镀膜机设备

免责声明: 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息,均来源于其对应的用户,本网对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题,请及时与本网联系,我们将核实后进行删除,本网站对此声明具有最终解释权。

查看全部介绍
推荐产品  / Recommended Products