随着真空镀膜技术的不断发展,其配套的真空度测量技术的关注度也与日俱增,连云港卷绕镀膜机哪里好。下面就由阿布来向大家介绍本期阿布小课堂的“主角”——真空计。真空计是测量真空度或气压的仪器,一般利用不同气压下气体的物理效应变化进压的测量,在科研和工业生产中普遍使用。在真空操作中,真空测量成为需要个攻克的难点,连云港卷绕镀膜机哪里好。从17世纪到19世纪,波义尔**压差计一直是只有的真空测量规,直到1874年,麦克劳将波义尔压差计中的**按照一定比例压缩后进行测量,称其为麦氏真空计。但麦氏真空计在工业使用中存在局限性,会出现玻璃管损坏或者**溢出的事故,连云港卷绕镀膜机哪里好。此后意大利裔德国人 Marcello Pirani 发明了个自动读数的真空计,被命名为皮拉尼真空计。柔性卷绕镀膜采用平整度在线控制装置可以直接在线实时对角度的控制,保证镀膜时膜面平整。连云港卷绕镀膜机哪里好
蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。连云港卷绕镀膜机哪里好卷绕式镀膜机多年来有了较大的发展。
卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较大,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分,卷绕机构设计中应考虑的几个问题: ①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。 ②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要,因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定,才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。
卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较大,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分,提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。卷绕镀膜设备中薄膜平整度在线控制装置包括平整度调节辊。
国外在上世纪90年代研究开发各种透明阻隔真空卷绕镀膜技术时,总结出采用电子束镀膜技术蒸镀SiOx和反应蒸镀Al2O3透明阻隔膜的工艺,其薄膜阻隔性能满足包装工业的要求。并且该工艺可大规模生产,镀膜质量好,工艺稳定性好,在生产过程中或以后均不存在环境污染问题。我们需要先了解一下电子束卷绕真空镀膜的工作原理。高能量扫描电子束发射的电子束按照预先设定的模式在盛放着待镀膜料的坩埚上方横向和纵向扫描,并轰击加热待镀膜材料,使其熔化蒸发或升华蒸发,或者氧化反应蒸发,直至把膜料镀至待镀膜卷上。 卷绕镀膜机可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。连云港卷绕镀膜机哪里好
磁控溅射具有镀膜温度低、可任意位置安放多个靶连续镀多层膜。连云港卷绕镀膜机哪里好
真空镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景,特别是在制造大规模集成电路的电学膜;在数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜;在能充分展示和应用各种光学特性的光学膜;在计算机显示用的感光膜;在 TFT、PDP 平面显示器上的导电膜和增透膜;在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;在包装领域用防护膜、阻隔膜;在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;在工、模具上应用的耐磨超硬膜:在纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等等都是真空镀膜技术及设备在普遍应的基础上得到的不断发展的领域。连云港卷绕镀膜机哪里好
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