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脱氢霉素杂质 深圳振强生物技术供应

信息介绍 / Information introduction

有机杂质又称有关物质。该类杂质通常与活性成分具有类似的化学结构,脱氢霉素杂质,其来源和去向的分析,以及准确和有效的控制,是化学仿制药药学研究的关键项目之一。本文以硼替佐米、地西 他滨和吉西他滨为例,结合原料药的合成方法、制剂的工艺和降解研究,分析原料药及其制剂中可能存 在的有机杂质,脱氢霉素杂质,包括起始原料、中间体,脱氢霉素杂质、工艺副产物、降解产物等,并基于“质量源于设计”的理念,提出相应的杂质控制策略,实现全程控制,有效确保药物的安全有效和质量可控。医药杂质密闭真空保存或充入惰性气体等方法也可以增加稳定性。脱氢霉素杂质

药物与杂质在物理能力上的差异,主要指药物与杂质在外观始分配或吸附以及对光的吸收等能力的差别;在化学能力上的差异,主要指药物与杂质对某学反应的差别,一般地,是杂质与试剂反应,而药物不反应。根据杂质的控制要求,可以进行量检查,也可以对杂质进行定量测定。制药企业应该按照经国家药品监督管理部门依法审查批准的规定工艺和规定原辅料进行药品的生产,如果变更加工工艺或原辅料,并由此而带进新的杂质,需对原质量标准进行修订。脱氢霉素杂质医药杂质具有确定特性量值。

杂质供试品溶液和标准溶液应在完全相同的环境下反应,如加入的试剂、反应的温度、放置的时间等均应相同。只有这样,反应的结果才有可比性。灵敏度法即在供试品溶液中加入试剂,在一定环境下反应,观察有无正反应出现,以不出现正反应为合格,即以该检测环境下反应的灵敏度来控制杂质限量。如纯化水中氯化物的检查是在50ml样品中加入稀硝酸和硝酸银试液,不得发生浑浊。本法不需中间体。比较法是对某些测定数值(如pH值、炽灼残渣量、干燥失重量、吸收度等)要求不得超过其限量值或范围。

杂质如特殊药物在日光、空气及湿气的效果下,易氧化分解为醛及有毒的过氧化物,药典规定启封后在24小时内使用。在温度、光照等因素的影响下,还可使一些药物产生异构化反应。在水分、温度适宜的环境下,微生物能使某些药物变质。药物中的杂质按来源可分为一般杂质和特殊杂质。一般杂质是指在自然界中分布较普遍,在多种药物的生产和贮藏过程中容易引入的杂质,如氯化物、硫酸盐、重金属、砷盐、干燥失重、炽灼残渣、易炭化物、酸碱度、铁盐等。医药杂质一次标定,用完为止。

杂质规定原辅料生产的药品中,由其加工工艺或原辅料带入的杂质,或在贮存过程中产生的杂质。药品质量标准中的杂质不包括变更加工工艺或变更原辅料而产生的新的杂质,也不包括掺入或污染的外来物质。药品生产企业变更加工工艺或原辅料,并由此带进新的杂质对原质量标准的修订,均应依法向有关药品监督管理部门申报批准。药品中不得掺入或污染药品或其组分以外的外来物质。对于假劣药品,必要时应根据各具体情况,可采用非法定解析方法予以检测。杂质的适用性是很强的。脱氢霉素杂质

杂质间视储存条件而定。脱氢霉素杂质

为确保杂质测定结果的准确可靠,一般情况下,校正因子在0.9~1.1时可不予校正,直接采用不加校正因子的自身对照法定量;超出该范围,如采用主成分自身对照法的定量方式,须用校正因子进行校正,即“加校正因子的主成分自身对照法”以保证杂质定量的准确性;如校正因子在0.2~5.0范围以外时,表明杂质与主成分的UV吸收相差过大,校正因子的作用会受到明显影响,此时应改变检测波长等检测条件,使校正因子位于上述范围内,或使用结构或UV吸收与该杂质接近的另一标准物质为参照物质,重新确立校正因子;如校正因子仍无法调节至适当范围,需考虑采用杂质对照品外标法等适当的杂质方式定量。脱氢霉素杂质

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