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淮安磁控镀膜机生产公司 欢迎来电 无锡光润真空科技供应

信息介绍 / Information introduction

在低气压下,离子是在远离阴极的地方产生,从而它们的热壁损失较大,同时,有很多初始电子可以以较大的能量碰撞阳极,所引起的损失又不能被碰撞引起 的次级发射电子抵消,淮安磁控镀膜机生产公司,这时离化效率很低,以至于不能达到自持的辉光放电所需的离子。通过增大加速电压的方法也同时增加了电子的平均自由程,从而也不能有效地增加离化效率。虽然增加气压可以提高离化率,但在较高的气压下,溅射出的粒子与气体的碰撞的机会也增大,实际的溅射率也很难有大的提高。如果加上一平行于阴极表面的磁场,就可以将初始电子的运动限制在邻近阴极的区域,从而增加气体原子的离化效率,淮安磁控镀膜机生产公司。磁控镀膜设备采用中频磁控溅射及多弧离子相结合技术,淮安磁控镀膜机生产公司,适用于塑胶、玻璃、陶瓷、五金等产品。淮安磁控镀膜机生产公司

真空溅镀室先由高真空泵抽至一定压力之后,通过恒压仪器或质量流量计向溅镀室内充入惰性气体(如氩气)至一恒定压力(如2×10-1Pa 或5×10-1Pa)后,在磁控阴极靶上施加一定功率的直流电源或中频电源,在正负电极高压的作用下,阴极靶前方与阳极之间的气体原子被大量电离,产生辉光放电,电离的过程使氩原子电离为Ar+离子和可以单独运动的电子,在高压电场的作用下,电子飞向阳极,而带正电荷的Ar+离子则高速飞向作为阴极的靶材,并在与靶材的撞击过程中释放出其能量,获得相当高能量的靶材原子脱离其靶材的束缚而飞向基体,于是靶材粒子沉积在靶对面的基体上形成薄膜。淮安磁控镀膜机生产公司磁控溅射工艺还用于卷绕工艺中用于包装膜、光学膜、贴膜等膜层镀制。

磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一,磁控溅射镀膜技术正普遍应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜,在**和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺中的薄膜厚度均匀性,沉积速率,靶材利用率等方面的问题是实际生产中十分关注的。解决这些实际问题的方法是对涉及溅射沉积过程的全部因素进行整体的优化设计,建立一个溅射镀膜的综合设计系统。薄膜厚度均匀性是检验溅射沉积过程的较重要参数之一,因此对膜厚均匀性综合设计的研究具有重要的理论和应用价值。

相对准确的电磁场设计是对溅射过程中的电磁场进行模拟,而不是只对未工作时的磁控溅射设备进行电磁场模拟。 电源的选择:“电源”的选择应根据不同的工艺过程确定,常见的有直流电源、中频电源、射频电源及能够实现多种供电模式的混合型电源等。 材料的选择:对于射频电源来说,功率的载人和匹配是非常重要的问题。大功率射频电源的电极载入材料要求面电导率高且化学稳定性好,工业上常选用无氧铜作为电极材料。磁控靶内的材料可按磁导率的高低划分,磁靴为高磁导率材料,一般为工业纯铁。阳极与屏蔽:阳极设计要考虑空间的位置,电位关系,尺寸和面积以及阳极的材料性能,保证溅射过程稳定进行。屏蔽的设计,首先要考虑电场的设计和电位关系,防止非靶材材料被溅射,污染薄膜。其次考虑屏蔽材料的性能,一般选用饱和蒸气压低,溅射阈值高且符合真空工艺要求的材料。磁控溅射工艺包括了光学设计、彩色膜、耐磨涂层、纳米层压板、超晶格镀膜、绝缘膜等。

一般情况下,系统一个部分功能的增强会带来整体功能的增强,同时降低系统对某些部分的依赖,或者可以理解为:系统两个必要因素有机结合为一个部分。建立综合设计系统有助于研究系统内各个部分内在的逻辑关系。大面积溅射镀膜综合设计系统可分为三大部分:镀膜设备的T程设计、镀膜工艺的设计及各个过程的计算机数值仿真设计,参照图l。每一部分又分为若千方面,且部分之间相互影响。因为系统比较复杂,所以系统初级阶段的建立应该尽量简化设计参数以提高其实用性。对于溅射镀膜来说,可以从真空系统,电磁场,气体分布,热系统等几个方面进行没计,机械制造和控制贯穿整个工程设计过程。磁控溅射工艺可利用阳极导走放电时产生的电子,而不必借助基材支架接地来完成。湖州磁控镀膜机有用吗

磁控镀膜机应用于手机领域,使这些产品的耐脏污性能更优,表面更易清洁,使用寿命更长。淮安磁控镀膜机生产公司

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