塑料材料中含有空气、残留溶剂、水分、增塑剂等,在真空条件下上述一种或多种成分放出,都会使真空度下降,延长抽真空时间,影响整个镀膜效果,严重的甚至使真空镀膜操作难于进行。而且不同种类、不同生产厂家制造的塑料材料,含气量是不一致的,即使同一种塑料,其放气特性在每次蒸镀时也可能有差别,宁波卷绕镀膜机作用有哪些,这将给塑料真空镀膜造成极大困难。为了在塑料表面获得理想的镀膜层,较常用的方法是选择适当的涂料将塑料表面封闭,减少真空状态下的放气量,或者采用双室真空装置,宁波卷绕镀膜机作用有哪些,宁波卷绕镀膜机作用有哪些,提高抽气效率。目前,离子轰击以及真空加热烘烤这2种除气方法的应用也已经相当普遍。 卷绕镀膜机可用磁控溅射方法在柔性基材上镀制各种介质膜。宁波卷绕镀膜机作用有哪些
真空镀膜技术及设备在当今和未来都拥有十分广阔的应用领域和发展前景,特别是在制造大规模集成电路的电学膜;在数字式纵向与横向均可磁化的数据纪录储存膜;在能充分展示和应用各种光学特性的光学膜;在计算机显示用的感光膜;在 TFT、PDP 平面显示器上的导电膜和增透膜;在建筑、汽车行业上应用的玻璃镀膜和装饰膜;在包装领域用防护膜、阻隔膜;在装饰材料上具有各种功能装饰效果的功能膜;在工、模具上应用的耐磨超硬膜:在纳米材料研究方面的各种功能性薄膜等等都是真空镀膜技术及设备在普遍应的基础上得到的不断发展的领域。江苏卷绕镀膜机应用根据开发镀膜工艺,利用我司卷对卷镀膜设备进行了样品制备。
磁控溅射卷绕镀膜设备与蒸发卷绕镀膜设备相比,生产效率较低、设备成本高,这是由镀膜原理所决定的。但磁控溅射具有镀膜温度低、可任意位置安放多个靶连续镀多层膜、镀膜材料适应范围宽、膜层厚度可控、细腻、均匀、附着牢固等优点。可用磁控溅射方法在柔性基材上镀制各种介质膜,如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5等;金属和合金膜如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等;用ITO、AZO等陶瓷靶可镀透明导电膜;用多层光学膜结构镀AR减反膜、HR高反膜、AR+ITO高透导电膜、低辐射Low-E和阳光控制膜等。
真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。卷绕镀膜设备主要由放卷室、工艺室、收卷室组成。
一般蒸镀室要达到的真空度为1x10^-3人a—2×10^-3人a,而工作压力为1×10^-2Pa—2×10^-2Pa,而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵(油扩散泵的一种)为主泵,它的极限压力虽然不及油扩散泵,但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级,非常适宜此类蒸发的镀膜过程。目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kW—8kW,加热电压为10V—12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的较外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。 卷绕镀膜机上室为基材卷绕室,要求真空度较低,为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。南京卷绕镀膜机价格表
国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min。宁波卷绕镀膜机作用有哪些
常见的真空卷绕镀膜设备按其工作原理分为:蒸发卷绕镀膜、磁控溅射卷绕镀膜和组合式卷绕镀膜。其中蒸发卷绕镀膜又分为电阻加热蒸发、感应加热蒸发和电子束加热蒸发三种;磁控溅射卷绕镀膜分为直流溅射和中频反应溅射两种;组合式卷绕镀膜分为电阻蒸发和磁控溅射组合、电阻蒸发和电子束蒸发组合、电子束蒸发和磁控溅射组合等多种形式。真空镀膜的运作原理:物理的气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。宁波卷绕镀膜机作用有哪些
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