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南京卷绕镀膜机定制公司 客户至上 无锡光润真空科技供应

信息介绍 / Information introduction

塑料材料中含有空气、残留溶剂、水分、增塑剂等,在真空条件下上述一种或多种成分放出,都会使真空度下降,延长抽真空时间,影响整个镀膜效果,严重的甚至使真空镀膜操作难于进行。而且不同种类,南京卷绕镀膜机定制公司、不同生产厂家制造的塑料材料,含气量是不一致的,即使同一种塑料,其放气特性在每次蒸镀时也可能有差别,南京卷绕镀膜机定制公司,这将给塑料真空镀膜造成极大困难。为了在塑料表面获得理想的镀膜层,较常用的方法是选择适当的涂料将塑料表面封闭,南京卷绕镀膜机定制公司,减少真空状态下的放气量,或者采用双室真空装置,提高抽气效率。目前,离子轰击以及真空加热烘烤这2种除气方法的应用也已经相当普遍。 卷绕镀膜机的产品性能满足触摸屏使用要求,后端使用无不良反馈,小批量量产验证稳定可靠。南京卷绕镀膜机定制公司

在国内外的包装材料工业、印刷材料工业、纺织工业、电子工业等领域得到普遍的应用,其各种形式的金属化薄膜,用于软包装材料、食品和的包装、工艺美术装璜用的电化铝、服装装饰用的金银丝,高级包装和装饰性保护薄膜,绝缘材料上形成的抗静电层,电缆电线的屏蔽层,丝网印刷和装饰的本底,阳光反射膜,贴墙纸,微波包装,反射路标以及转移镀膜工艺用的PET和OPP的金属化等,随着新技术的迅速发展和应用,其实际的用途还在不断增加。根据试验工艺进行了膜层溅射,溅射后测定成品膜透过率为87.2%,面电阻72 Ω/□,满足行业一般要求,因触摸屏实际使用可能会遇到不同的环境条件,产品遇到高温、低温、高低温冲击等恶劣环境,完全模拟现实条件需要的时间很长,不利于产品的及时推广,因此一般采取实验室测试的方法,结合行业经验对开发产品进行可靠性进行测试。南京卷绕镀膜机定制公司溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。

塑料表面金属化将改善塑料的表面性质,使其具有塑料和金属两者的独特功能,真空镀膜法是在高真空状态下,以分子或原子形态沉积在塑料表面形成一薄层金属膜,是塑料表面金属化有效的手段之一。真空镀膜的运作原理:物理的气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。真空镀膜常用的方法有真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜和离子镀膜3种。

真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使之蒸发或升华,并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。在真空条件下成膜有很多优点:可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量,从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低。卷绕镀膜机产品在国内外的包装材料工业、印刷材料工业、电子工业等领域得到普遍的应用。

真空蒸发镀膜在真空环境下加热镀膜材料,使它在极短时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉积在塑料表面上形成镀膜层。此法简单便利、操作容易、成膜速度快、效率高,是薄膜真空制备中较为普遍使用的技术,但薄膜与基体结合较差,工艺重复性不好,只能蒸发铝这样的低熔点金属。磁控溅射镀膜是在真空中充入惰性气体,并在塑料基体和金属靶之间加上高压直流电,由辉光放电产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子击出,沉积在塑料基体上。由于溅射原子能量比蒸发原子能量高1~2个数量级,高能量的溅射原子沉积在基体时转换的能量多,甚至可发生部分注入现象,同时溅射成膜过程中,基体始终在等离子区中被清洗和启用,因此溅射镀膜与塑料表面的附着力要比蒸发镀膜好,膜层致密、均匀,如配合适当的工件转动,可在复杂表面上获得较均匀的镀层离子镀膜是蒸发工艺与溅射技术的结合,它是在镀膜的同时采用荷能离子轰击工件表面和膜层,使得镀膜层和基体结合力好,不易脱落。镀膜材料适应范围宽、细腻、均匀、附着牢固等优点。南京卷绕镀膜机定制公司

卷绕镀膜机的镀膜产品用于装饰、包装、电容器等领域中。南京卷绕镀膜机定制公司

特殊性塑料的种类很多,并非所有的都可以进行真空镀膜,有的与金属层的结合力很差,没有实用价值,有的与金属镀层的某些物理性质如膨胀系数相差过大,在高温差环境中难以保证其使用性能,所以真空镀膜时,与金属、玻璃等无机物相比,作为基体材料的塑料具有一定的特殊性。使沉积温度受到制约塑料属于高分子有机物,耐热性较差,特别是光学塑料,一般要在35~45℃的温度下进行镀膜。而真空镀膜时,不论采用什么方法,基体都受到热的影响,如蒸发源的辐射热,高能量的溅射原子撞击基体的动能以及镀膜材料原子的凝聚能等,都会引起基体的温度升高。控制基体温度在允许的范围内,使真空镀膜时的沉积温度受到制约。南京卷绕镀膜机定制公司

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