光催化初始浓度对降解率的影响，污染物浓度和反响功率的联系可以用Langmuir-Hinshelwood 模型，这适用于大多数的污染物， 包含乙醇、甲醛、家苯、三氯乙烯等。光催化氧化设备依据Lagmium-Hinsherwood动力学方程，气固相光催化反响进程中，当反响物浓度很低时，吉安光催化氧化处理设备，光催化降解率与浓度呈正比，光催化降解表现为一级动力学方程；跟着反响物浓度添加，光催化氧化设备降解率略有所添加；当浓度到达某一值时，反响速率不再发生变化，只与活性方位的表面反响速率常数有关，反响速率为一常数，吉安光催化氧化处理设备，光催化降解表现为零级反响动力学。若反响物浓度过高，吉安光催化氧化处理设备，会导致催化剂失活。光催化氧化技术：通过采用高能高臭氧紫外线光束让空气中的氧分子产生游离氧进而产生臭氧。吉安光催化氧化处理设备

UV光催化剂，自从上世纪90年代日本学者藤岛昭教授和Honda等人发现光催化氧化设备TiO2 单晶电极光解水以来，使光催化法和光催化资料得到了科学界普遍的重视及深化的研讨。在这些研讨中常见的UV光催化剂主要是金属氧化物或硫化物，例如：TiO2, ZnO, ZrO2，SnO2,WO3,CeO2,Fe2O3,Al2O3,ZnS 和CdS(Hoffmann et al.,1995)，其中被普遍应用与光催化氧化设备的催化剂是TiO2和ZnO，研讨发现这类催化剂能使空气中的多种碳氢化合物被氧化分化，这些金属氧化物的活性次序是：TiO2>ZnO>WO3 (Hoffmann et al.,1995)吉安光催化氧化处理设备光催化技术中的纳米TO除具有降解有机物和无机物的能力外，还具有杀菌的功能。

光催化对除甲苯的去除功率跟着相对湿度的添加而进步；当相对湿度大于60%今后光催化的功率跟着相对湿度的添加而下降。相对湿度在45%到60%间光催化去除甲苯的功率到达较高。这首要原因是，紫外光催化氧化设备在相对湿度较低时，反响系统中的水分子较少，光催化反响发生的·OH较少，而跟着相对湿度的添加，光催化反响系统中的·OH 逐步添加，然后进步了光催化对甲苯的去除功率；但跟着相对湿度的持续添加，系统中的水分子越来越多，当相对湿度大于60%今后，光催化反响系统中的水分子和反响物家苯在催化剂外表的竞赛吸附越来越显着，然后使甲苯的去除率开端下降。

光催化氧化处理的光解：利用UV紫外光的能量使空气中的分子变成游离氧，游离氧再与氧分子结合，生产氧化能力更强的臭氧，进而破坏VOCs中的有机或无机高分子化合物的分子链，使之变成低分子化合物，如CO2和H2O等。光催化：利用一定波长的UV紫外光波照射光催化剂，产生羟基自由基（•OH），羟基自由基具有很高的反应能，能够氧化绝大部分的有机物及无机污染物，使其矿化为无机小分子、CO2和H2O等。其中，光催化剂有TiO2、ZnO、CdS、WO3等，其中TiO2 的综合性能较好，应用较广。光催化氧化设备具有除臭效率高、操作简略、噪音小等优势。

光催化氧化对印染废水的处理，传统的处理方法，比如，吸附法，电化学法，电凝法，生物法等，只能把污染物从一种物相转化为另一种物相，不能使污染物得到彻底分解或无害化，而光催化氧化能够把印染废水中的有害物质彻底分解为 H2O、 CO2 等有机小分子和其他无害物质，消除了二次污染。采用纳光催化氧化处理直接耐晒翠蓝染液（染料浓度 100mg/L， TiO2 用量 1000mg/L），当光照时间大于 200min 时，色度去除率达到 93%， TOC去除率达到 50%。对色度 375、 pH值 5.35、 CODcr 595.16 mg/L的模拟墨绿色印染废水采用光催化处理后脱色率达90%， CODcr 脱除率达 80%左右。紫外光催化氧化设备在低光强下速率与光强成线性关系。吉安光催化氧化处理设备

光催化氧化技术设备投资低、处理量大、运行成本低、净化效率高，并且不存在二次污染。吉安光催化氧化处理设备

光催化氧化法是目前研究较多的一项氧化技术。所谓光催化反应，就是在光的作用下进行的化学反应。光化学反应需要分子吸收特定波长的电磁辐射，受激产生分子激发态，然后会发生化学反应生成新的物质，或者变成引发热反应的中间化学产物。光催化降解中较常见的是在污染体系中投加一定量的光敏材料，同时结合一定量的光辐射，使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对，吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用，产生·HO等氧化性极强的自由基，再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等形式使污染物全部或接近全部矿化。

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