通过调整光刻胶的配方，满足差异化的应用需求，是光刻胶制造商较中心的技术。质量控制技术：由于用户对光刻胶的稳定性、一致性要求高，包括不同批次间的一致性，通常希望对感光灵敏度、膜厚的一致性保持在较高水平，因此，光刻胶生产商不仅*要配臵齐全的测试仪器，还需要建立一套严格的QA体系以保证产品的质量稳定。原材料技术：光刻胶是一种经过严格设计的复杂、精密的配方产品，由成膜剂、光敏剂，广州硅材料刻蚀、溶剂和添加剂等不同性质的原料，通过不同的排列组合，经过复杂，广州硅材料刻蚀、精密的加工工艺而制成。因此，光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用，广州硅材料刻蚀。对于半导体化学化学试剂的纯度，际半导体设备和材料组织（SEMI）制定了国际统一标准，掩膜板与光刻胶层的略微分开，可以避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤。广州硅材料刻蚀

在平板显示行业；主要使用的光刻胶有彩色及黑色光刻胶、LCD触摸屏用光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等。在光刻和蚀刻生产环节中，光刻胶涂覆于晶体薄膜表面，经曝光、显影和蚀刻等工序将光罩（掩膜版）上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版对应的几何图形。在PCB行业；主要使用的光刻胶有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜贴在处理后的敷铜板上，进行曝光显影；湿膜和光成像阻焊油墨则是涂布在敷铜板上，待其干燥后进行曝光显影。湖北材料刻蚀加工光刻的光源是波长为11～14nm的极端远紫外光。

准分子光刻技术作为当前主流的光刻技术，主要包括：特征尺寸为0．1μm的248nmKrF准分子激光技术；特征尺寸为90nm的193nmArF准分子激光技术；特征尺寸为65nm的193nmArF浸没式技术（Immersion，193i）。其中193nm浸没式光刻技术是所有光刻技术中较为长寿且较富有竞争力的，也是目前如何进一步发挥其潜力的研究热点。传统光刻技术光刻胶与曝光镜头之间的介质是空气，而浸没式技术则是将空气换成液体介质。实际上，由于液体介质的折射率相比空气介质更接近曝光透镜镜片材料的折射率，等效地加大了透镜口径尺寸与数值孔径（NA），同时可以明显提高焦深（DOF）和曝光工艺的宽容度（EL），浸没式光刻技术正是利用这个原理来提高其分辨率。

近年来，国产面板得到了突破性发展，但是很多上游原材料配套不足，供应链都在海外，导致成本高企，所以这也给了国产光刻胶一个机会。再加上国内晶圆代工近两年取得较大的进步，对国产光刻胶需求也在明显上升，这些都为国产光刻胶发展创造了良好的条件。另一个层面来讲，国产光刻胶需要**自主。虽然光刻胶的市场不大，但是有些产业的存在不仅*是能否赚钱的问题，而是出于战略需求。回顾去年日本断供韩国光刻胶事件，强大如韩国，依然被一个小小的光刻胶所卡死。所以应该有国产光刻胶的存在，保证自身的战略安全，这也是较近发改委为何会发文，要加快光刻胶、大尺寸硅片等领域实现突破的原因所在。提高光刻技术分辨率的传统方法是增大镜头的NA或缩短波长，通常首先采用的方法是缩短波长。

世界三大光刻机生产商浸没式光刻机样机都是在原有193nm干式光刻机的基础上改进研制而成，较大降低了研发成本和风险。因为浸没式光刻系统的原理清晰而且配合现有的光刻技术变动不大，目前193nmArF准分子激光光刻技术在65nm以下节点半导体量产中已经普遍应用；ArF浸没式光刻技术在45nm节点上是大生产的主流技术。为把193i技术进一步推进到32和22nm的技术节点上，光刻**一直在寻找新的技术，在没有更好的新光刻技术出现前，两次曝光技术（或者叫两次成型技术，DPT）成为人们关注的热点。ArF浸没式光刻技术在45nm节点上是大生产的主流技术。广州硅材料刻蚀

在更低的22nm节点甚至16nm节点技术中，浸没式光刻技术也具有相当大的优势。广州硅材料刻蚀

虽然g-line光刻胶和i-line 光刻胶使用的成分类似，但是其树脂和感光剂在微观结构上均有变化，因而具有不同的分辨率。G-line光刻胶适用于0.5um(500nm)以上尺寸的集成电路制作，而i-line光刻胶使用于0.35um（350nm至0.5um（500nm）尺寸的集成电路制作。此外，这两种光刻胶均可以用于液晶平板显示等较大面积电子产品的制作。90年代后半期，遵从摩尔定律的指引，半导体制程工艺尺寸开始缩小到0.35um（350nm）以下，因而开始要求更高分辨率的光刻技术。深紫外光由于波长更短，衍射作用小，所以可以用于更高分辨率的光刻光源。广州硅材料刻蚀

广东省科学院半导体研究所致力于电子元器件，以科技创新实现***管理的追求。广东省半导体所拥有一支经验丰富、技术创新的专业研发团队，以高度的专注和执着为客户提供微纳加工技术服务，真空镀膜技术服务，紫外光刻技术服务，材料刻蚀技术服务。广东省半导体所不断开拓创新，追求出色，以技术为先导，以产品为平台，以应用为重点，以服务为保证，不断为客户创造更高价值，提供更优服务。广东省半导体所创始人陈志涛，始终关注客户，创新科技，竭诚为客户提供良好的服务。

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