真空镀铝膜反应磁控溅射沉积过程中基板升温较小，而且制膜过程中通常也不要求对基板进行高温加热，天津双层气泡镀铝膜价格，因此对基板材料的限制较少。反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜，天津双层气泡镀铝膜价格，并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产。磁控溅射镀膜原理：磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入1～10Pa压力的惰性气体(Ar),作为气体放电的载体，天津双层气泡镀铝膜价格。在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子, 电子在加速飞向基片的过程中,受到垂直于电场的磁场影响。镀膜光线透穿率可达95%。天津双层气泡镀铝膜价格

真空镀铝膜的目测估计法。如用两层真空镀铝膜叠在一起对着日光灯或对着天空看，以看不见光线为准，镀层厚度应达400Å以上，但这种方法很容易受眼睛视觉的影响，当把真空镀铝膜贴在眼前观看时，眼睛的瞳孔会随光线变暗而调整，本来看不见的光线在瞳孔调整后又将能看见。真空镀铝膜镀层的均匀度沿被测样品横向等距离地取8~10个规格为100mm×100mm的试样，用电阻测量仪分别测出方块的电阻值，取其算数平均值，即为该试样的镀层电阻，还可以计算其电阻值上、下偏差。福建磁控溅射镀铜膜产品真空镀铝膜是一种廉价美观、性能优良、实用性强的包装材料。

真空镀铝膜反应磁控溅射，以金属、合金、低价金属化合物或半导体材料作为靶阴极，在溅射过程中或在基片表面沉积成膜过程中与气体粒子反应生成化合物薄膜，这就是反应磁控溅射 。反应磁控溅射普遍应用于化合物薄膜的大批量生产，这是因为：(1)反应磁控溅射所用的靶材料 ( 单元素靶或多元素靶 ) 和反应气体 ( 氧、氮、碳氢化合物等 ) 纯度很高，因而有利于制备高纯度的化合物薄膜。(2)通过调节反应磁控溅射中的工艺参数 , 可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜，通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性。

真空镀铝膜的聚酯类(如PET、PBT、PC)属于极性高分子，其表面自由能较高，表面湿张力在40dyn/cm(1dyn/cm=1mN/m)以上，与镀铝层结合力很好，可作无底镀。即在基材(如PC极性高分子)上直接镀铝再镀保护膜。镀铝保护膜具有提高铝膜的机械强度，阻隔有害气体(如大气中的O2)或物质对铝膜的侵蚀[6]等作用，使镀层具有亮丽的金属光泽，优异的气体和光线阻隔性，良好的防潮、耐热、耐穿刺性能，物品在运输、贮存和使用过程中不受污染、腐蚀，保持光洁亮泽。由于PC主链含有酯基。镀膜常用在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用。

真空镀铝膜可采用屏蔽或洗脱进行部分镀铝，以获得任意图案或透明窗口，能看到包装的内容物。真空镀铝膜的镀铝层导电性能好，能去除静电效应，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分，保证了包装的密封性能。真空镀铝膜对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜.虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜.真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀铝膜可直接进行蒸镀。天津双层气泡镀铝膜价格

真空镀铝膜将卷筒薄膜置放于真空室内。天津双层气泡镀铝膜价格

真空镀铝膜在平面磁控靶结构原理中可以看出，磁控溅射源实质上是在二极溅射的阴极靶后面设置了磁铁，磁铁在靶面上产生水平分量的磁场。离子轰击靶材时放出二次电子，这些电子的运动路径很长，被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内沿跑道转圈，在该区中通过频繁地碰撞电离出大量Ar + 用以轰击靶材，从而实现了高速溅射。电子经数次碰撞后能量逐渐降低，逐步远离靶面，极终以很低的能量飞向阳极基体，这使得基体的升温也较低。由于增加了正交电磁场对电子的束缚效应，故其放电电压(500～600V)和气压(10 -1 Pa)都远低于直流二极溅射。天津双层气泡镀铝膜价格

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