塑料薄膜的镀膜工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP、CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，然后再把纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量，开通冷却源，上海镭射介质膜厂，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化，上海镭射介质膜厂、蒸发，上海镭射介质膜厂，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。真空镀铝膜的适用性是比较强的。上海镭射介质膜厂

镀膜过渡室亦应配置真空机组, 并要保持较高的真空度。输入端的过渡室内可以设置辉光放电等离子清洗装置。但应考虑与基片运行方向相邻的室体的隔离, 这种隔离主要是相邻的室体维持不同的压力。辉光放电的压力一般较高, 而溅射镀膜的工作压力往往在更低的量级。在前后过渡室之间的部分称为镀膜室或溅射室。每个镀膜室是一个**的沉积区域。所谓**是指该镀膜室内的工作压力以及工作氛围不受其它室体的影响。每个溅射室设有一付或两付靶位。每付靶位上可以安装一付磁控溅射靶, 或称为阴极。上海镭射介质膜厂真空镀铝膜在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层。

镀膜只要保证磁场的均匀, 再在工作气体的布气装置上采用合理的方式, 在整个靶面的区域内, 实践证明均能获得均匀的溅射刻蚀。这是膜层横向均匀性的重要保证。考虑到靶的两端所产生的边缘效应, 为使基片的两端也获得与中间部分相同的膜厚, 靶的两端要伸出基片边缘足够的长度。高真空的背景是溅射沉积的必要条件, 所以溅射室对称设置有高真空机组。目前采用的大多是扩散泵机组。进口设备中, 配置涡轮分子泵的, 但维修麻烦, 更换轴承需由厂家进行；配置扩散泵的还加有液氮冷阱, 这样有更好的挡油效果, 但维持费用高。

检验包装由于真空镀铝膜容易被划伤或碰伤，按镀铝基本性能要求检验合格后，其包装应对镀铝件起到有效的防护作用，装箱时应避免产品之间的摩擦碰伤。采用两层塑料袋包装，内层一定要薄(一般为0.005mm厚)而柔软并且紧贴塑件，外层用泡泡塑料口袋包装，每层之间用纸板隔开，以减少互相碰伤的机率。涂料涂覆是镀铝前的重要工序，事关后续的镀铝质量。涂覆环境(含干燥设备)无尘，能减少涂覆表面颗粒和灰尘纤维粘附在表面。多数涂覆以人工操作为主，喷手的操作技术很重要。真空镀铝膜主要为热固化底漆和紫外光(UV)固化底漆，适用性很好。

真空镀铝膜的聚酯类(如PET、PBT、PC)属于极性高分子，其表面自由能较高，表面湿张力在40dyn/cm(1dyn/cm=1mN/m)以上，与镀铝层结合力很好，可作无底镀。即在基材(如PC极性高分子)上直接镀铝再镀保护膜。镀铝保护膜具有提高铝膜的机械强度，阻隔有害气体(如大气中的O2)或物质对铝膜的侵蚀[6]等作用，使镀层具有亮丽的金属光泽，优异的气体和光线阻隔性，良好的防潮、耐热、耐穿刺性能，物品在运输、贮存和使用过程中不受污染、腐蚀，保持光洁亮泽。由于PC主链含有酯基。镀膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态。上海镭射介质膜厂

镀膜的材料本身是一种无机物，对膜本身没有损害。上海镭射介质膜厂

镀膜的溅射室的数量亦或溅射靶的数量, 包括选用的靶材, 取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/ cm 2, 比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好, 功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材, 功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体,。上海镭射介质膜厂

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