真空镀铝膜特点：（1）减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～gpm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05n左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现小孔和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味，真空镀膜厂家报价、光线等的阻隔性提高，真空镀膜厂家报价。（3）具有比较好的金属光泽，光反射率可达97%；且可以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的。（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，真空镀膜厂家报价，以获得任意图案或透明窗口，能看到内装物。真空镀铝膜是需要专业的人员进行操作的。真空镀膜厂家报价

等离子预处理工艺在真空镀铝膜中的应用，等离子体是电离了的气体。它由电子、离子和中性粒子3种成分组成，其中电子和离子的电荷总数基本相等，故整体是电中性的。在基材薄膜镀铝前，通过等离子处理装置将电离的等离子体中的电子或离子打到基材薄膜表面，一方面，可以打开材料的长分子链，出现高能基团；另一方面，经打击使薄膜表面出现细小的凹陷，同时还可使表面杂质离解、重解。电离时放出的臭氧有强氧化性，附着的杂质被氧化而除去，使镀铝基材薄膜的表面自由能提高，达到提高镀铝层附着牢度的目的。真空镀高反射膜反射镜真空镀铝膜对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。

镀膜磁控溅射，磁控溅射又称为高速低温溅射。在磁场约束及增强下的等离子体中的工作气体离子 (如 Ar+)，在靶阴极电场的加速下，轰击阴极材料，使材料表面的原子或分子飞离靶面，穿越等离子体区以后在基片表面淀积、迁移极终形成薄膜。与二极溅射相比较，磁控溅射的沉积速率高，基片升温低，膜层质量好，可重复性好，便于产业化生产。它的发展引起了薄膜制备工艺的巨大变革。磁控溅射源在结构上必须具备两个基本条件：(1)建立与电场垂直的磁场；(2)磁场方向与阴极表面平行，并组成环形磁场。

镀膜应用：在眼镜上。镀膜常用在相机镜头、近视、远视、老花镜等矫正眼镜上使用。镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影；不同颜色的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间。眼镜镀膜常用药品：二氧化锆（ZrO₂）、二氧化硅（SiO₂）、ITO（增加镜片导电抗紫外线）、HT-100（防水膜，防止老化和氧化）镀膜原理：高电压电子qiang将以上几种药品汽化，均匀分布在镜片表面。真空镀铝膜适合于在各种薄膜上进行镀铝。

镀膜的溅射室的数量亦或溅射靶的数量, 包括选用的靶材, 取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/ cm 2, 比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好, 功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材, 功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体,。真空镀铝膜可用于膜的蒸镀，但膜的质量有所要求。真空镀高反射膜反射镜

镀膜目的是希望减少光的反射，增加透光率。真空镀膜厂家报价

真空镀铝膜流淌和涂覆不均匀往往会导致镀铝产品报废。涂覆件一定要有足够的干燥温度和时间，若干燥不好，耐高温试验会有镀铝面发雾或起皱纹等现象。真空镀铝膜时，工件装架不当会引起镀铝区域偏移而报废；若铝丝纯度不够或蒸发控制不当，蒸发中有杂质逸出会形成炸铝痕迹而残留于塑件表面；蒸发温度过高或过低、蒸发器表面温度不稳定都会在真空镀铝膜表面留下小颗粒白点(对着灯光观察)；真空度不好会导致镀膜附着力不合格；镀膜流量控制不好也会导致镀膜发彩等。真空镀膜厂家报价

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