磁控溅射镀膜使电子产生偏转,被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,在运动过程中不断与Ar原子发生碰撞,电离出大量的Ar+离子，无纺布镀银膜厂，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,极终落在基片、真空室内壁及靶源阳极上。而Ar+离子在高压电场加速作用下,与靶材的撞击并释放出能量，无纺布镀银膜厂，无纺布镀银膜厂,导致靶材表面的原子吸收Ar+离子的动能而脱离原晶格束缚,呈中性的靶原子逸出靶材的表面飞向基片,并在基片上沉积形成薄膜。镀膜的加工方法当数真空镀铝法。无纺布镀银膜厂

真空镀铝膜是一个集工作环境、加工设备、人员技术、素材靶材和工艺控制于一体的综合制造过程。镀铝性能取决于塑件和镀膜层的质量，被人戏称为“富人的游戏”，说明镀膜质量要求相当高。镀膜质量的关键是底漆层质量。虽有无底涂镀膜，但其模具质量要求和成本高，存在镀铝反射亮度不足和塑件缺陷等问题，易导致镀铝产品报废率居高不下。一般而言，无底涂的报废率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至会更高。为解决这一困惑，国内有厂家经过10多年的努力，采用了炉内喷涂底漆并固化使镀件生成高亮的表面。无纺布镀银膜厂真空镀铝膜具有价廉、美观及较好的阻隔性能。

镀膜过渡室亦应配置真空机组, 并要保持较高的真空度。输入端的过渡室内可以设置辉光放电等离子清洗装置。但应考虑与基片运行方向相邻的室体的隔离, 这种隔离主要是相邻的室体维持不同的压力。辉光放电的压力一般较高, 而溅射镀膜的工作压力往往在更低的量级。在前后过渡室之间的部分称为镀膜室或溅射室。每个镀膜室是一个**的沉积区域。所谓**是指该镀膜室内的工作压力以及工作氛围不受其它室体的影响。每个溅射室设有一付或两付靶位。每付靶位上可以安装一付磁控溅射靶, 或称为阴极。

塑料薄膜的镀膜工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP、CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，然后再把纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量，开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜。真空镀铝膜具有优良的耐折性和良好的韧性。

真空镀铝膜的电阻层电阻的偏差，实际就是反映了镀铝层的均匀度。镀铝牢度镀铝牢度一般是用胶带来检测的。当用胶粘带定性测定镀铝层牢度时，把大约15cm长的胶粘带贴在镀铝面上并用手指压平。然后用一只手压住样品，另一只手匀速剥离胶粘带。用带强光的灯箱检验铝层脱落转移的情况。另一种测定镀铝层牢度的方法用于PET真空镀铝膜。把一种特别制备的试验膜与PET真空镀铝膜按一定的热封条件热封，然后裁样后用拉伸试验机剥离，测定剥离力并检查热封面积中的铝层转移情况。真空镀铝膜其封口性能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分。离子镀膜厂商

真空镀铝膜在一定湿度的常温环境下基材吸水率较高(0.15%~0.19%)。无纺布镀银膜厂

真空镀铝膜可以进一步提高真空镀铝膜的氧气阻隔性能，同时可以保持表面张力大于50 dyne/cm 6到12个月。产品主要应用于对氧气阻隔性要求高的食品、药品的包装上，如坚果、薯片等。为提高真空镀铝膜的装饰性能，在基材薄膜镀铝前或镀铝后进行各种颜色的涂布，或模压后再进行镀铝，使得真空镀铝膜具有多彩的颜色或具有镭射效果。此类产品可分为三种：包装用膜、装饰用膜、标示用膜。主要应用于礼品、礼盒的装饰或防伪包装用途，如食品、药品、玩具等的外包装以及烟、酒等的防伪包装。无纺布镀银膜厂

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