塑料薄膜的镀膜工艺一般采用直镀法，即将铝层直接镀在基材薄膜表面。BOPET、BOPA薄膜基材镀铝前不需进行表面处理，可直接进行蒸镀。而BOPP、CPP、PE等非极性塑料薄膜，在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层，使其表面张力达到38-42达因/厘米或具有良好的粘合性。蒸镀时，将卷筒薄膜置放于真空室内，关闭真空室抽真空。当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，江苏光学镀膜厂，然后再把纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。调节好放卷速度、收卷速度、送丝速度和蒸发量，开通冷却源，使铝丝在蒸发舟上连续地熔化、蒸发，江苏光学镀膜厂，从而在移动的薄膜表面冷却后形成一层光亮的铝层即为镀铝薄膜，江苏光学镀膜厂。真空镀铝膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜。江苏光学镀膜厂

真空镀铝膜的离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.二极溅射是极早采用，并且是目前极简单的基本溅射方法。直流二极溅射装置由阴、阳极组成。用膜材(导体)制成的靶作为阴极，放置被镀件的工件架作为阳极(接地)，两极间距一般为数厘米至十厘米左右。当真空室内电场强度达到一定值后，两极间产生异常辉光放电。等离子区中的Ar +离子被加速而轰击阴极靶，被溅射出的靶材原子在基体上沉积形成薄膜。江苏真空镀介质膜的公司真空镀铝膜从一定程度上代替了铝箔。

真空镀铝膜的二极溅射方法虽然简单，但放电不稳定，而且沉积速率低。为了提高溅射速率以及改善膜层质量，人们在二极溅射装置的基础上附加热阴极，制作出三极溅射装置。三极溅射中，等离子体的密度可以通过改变电子发射电流和加速电压来控制。离子对靶材的轰击能量可以用靶电压加以控制，从而解决了二极溅射中靶电压、靶电流和气压之间相互制约的矛盾。三极溅射的缺点在于放电不稳定，等离子体密度不均匀引起的膜厚不均匀。为此，在三极溅射的基础上又加了一个辅**极，这就形成了四极溅射。

氧化物真空镀铝膜技术的应用近年来，迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求，即包装材料不仅要具有优良的阻隔性能，而且还要耐高温、微波透过性好等特性，传统的包装材料很难各个方面具备这些特点。非金属镀膜可采用蒸镀原料可采用SiOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y 2O 3、TiO2、Gd 2O 3等，其中极常用的是SiOX、AlOx。氧化物镀膜的蒸发源有电阻式和电子束两种，电阻式蒸发源以电阻通过发热的原理来加热蒸镀原料。真空镀铝膜既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度。

镀膜的溅射室的数量亦或溅射靶的数量, 包括选用的靶材, 取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/ cm 2, 比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好, 功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材, 功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体,。真空镀铝膜其封口性能好，尤其包装粉末状产品时，不会污染封口部分。上海双层气泡镀铝膜哪家好

真空镀铝膜在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理或涂布黏合层。江苏光学镀膜厂

真空镀铝膜极高加热温度可达1700℃，电子束蒸发源利用加速电子碰撞蒸镀原料而使其蒸发，蒸发源配有电子，用磁场或电场加速并聚集电子束，使电子束集中在蒸发材料的局部位置上而形成加热束斑，束斑温度可达3000～6000℃，能量密度极高可达20KW/cm2。非金属镀膜时，蒸镀原料较高的气化温度和蒸发能导致在蒸发过程中蒸镀区温度较高，大量的辐射热使得基材吸收过量的热能而温度升高；同时，气化分子、离子和其它微粒在基材表面凝结成膜时放出的热量致使基材温度过高而发生严重的热变形。江苏光学镀膜厂

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