粘度及び液滴径）の乳液を製造可能です本装置は部品交換を行う事なく運転条件の変更のみで、多彩な原料への対応や色々な品種の商品の製造が可能です，常州搅拌机供应。例えば、低粘度から比较大40,000mPa･s※1の高粘性乳液・クリームの製造が可能です。また、ローターの回転速度や供給量を調整する事で、数μmから250nmの液滴径の乳液・クリームを製造可能です，常州搅拌机供应。部品交換を行う事なく、異なる物性の乳液の製造に活用可能であるため、多品種・小ロット生産に加え、研究室での新商品開発に**適です。※1ｺｰﾝﾌﾟﾚｰﾄ型粘度計による計測[実施例]下図に、ZERO-7型の循環運転における回転速度と液滴径の関係を示します。回転速度を変えることにより数μｍから250nmの範囲で任意のエマルション径へのコントロールが可能です。また高回転速度で製造した小さなエマルションは、油滴の浮上（クリーミング）の***に有利であり、乳液の安定性の向上に寄与します，常州搅拌机供应。図循環運転における周速と液滴径の関係（流量:20L/hr）(3)処理目的に応じた**適な運転方式の選択が可能です本装置は、乳化処理の目的に応じて**適な運転方式の選択ができます。日本吉田工业专业设计食品搅拌机。常州搅拌机供应

    ビーズミル内ではビーズが高速で攪拌されており、スラリーをビーズミル内に通過させ、目標とする粒子径まで微細化した後にスラリーを回収します。図12当社ビーズミルの運転時における周辺機器を含めた装置構成1)微小ビーズを用いた微細化実施例（酸化チタン）UAMを使用し酸化チタンを15μm、30μm、50μmの3種類のビーズを用いて微細化処理を行いました。粒子径分布測定評価において、平均径は減少傾向となり、15μmと30μmビーズを用いた処理では約30nmまで微細化され、50μmビーズの処理では約20nmまでの微細化が認められました。粒子形状評価において、15μmと30μmビーズを用いた処理では、粒子破壊がほとんど確認されないのに対して、50μmビーズの処理においては、粒子破壊が認められます。これらの評価から、30μm以下の微小ビーズを用いて衝撃力を***することが、粒子破壊を嫌うナノ粒子の分散処理に効果的であることがわかります。図13ビーズサイズ差による平均径の経時変化図14ビーズサイズ差によるTEM写真DAMを用いた微細化実施例50μmのビーズを用いて、ロータ周速を3、6、9m/sに設定しUVカットに用いられる酸化チタンの分散実験を行いました。淮安搅拌机价格日本吉田工业专业设计卧式搅拌机。

    超微細孔のセラミックフィルターを使用する事でナノサイズの粒子も完全に捕捉でき、ろ過後のろ液は清澄となりました。運転時間とろ過速度の関係ろ過後のろ液清澄性確認図８酸化チタンナノ粒子のろ過実施例仕様及び採用例機種ロータリーフィルター［ＲＦ］セラミックロータリーフィルター［ＣＲＦ］適用粒子サイズ微粒子超微粒子サブミクロン～100μmナノ～サブミクロン処理内容洗浄、濃縮、脱水洗浄、濃縮ろ材ろ布セラミックフィルターろ過速度※１)200～2000L/m2hr20～500L/m2hrろ過室標準材質※２）SUS304SUS304採用例１．電子部品材料（M、磁性体等）２．二次電池向け材料３．金属水酸化物、酸化物４．顔料（トナー、カラーフィルターレジスト等）５．化粧品材料（炭酸カルシウム、酸化チタン等）６．金属のリサイクル７．原子力設備の廃水処理1．機能性材料（無機ナノ粒子）2．クーラント液中の固形分除去3．ラテックス4．食品材料（ワイン、ビール等の沈殿物除去等）※１）ろ過速度は、ろ過面積あたりのろ液排出量です。※２）材質はSUS304の他、SUS316、SUS316L、チタン、ポリプロピレン（耐酸仕様）等、液性状に合わせて製作致します。（参考文献）1.院去貢。

    WAM）～大流量により短時間で均一化～図9フォールレングス-セパ・アペックスミル特長UAMのビーズ分離部を拡大し、これにビーズの分離と攪拌の両機能を持たせた新型ロータを採用することで、UAMよりもビーズ分離能力を向上させたビーズミルです。ビーズ分離能力を高くしたことで、大流量(UAMの3倍)で運転することができ、短時間で多くのパス数が得られます。そのため、短時間で粒子径を均一化することができます。さらに、このロータは、攪拌ピンよりも衝撃力が小さいため、ビーズ衝撃力がUAMより小さくなり、分散処理時に、粒子へのダメージが***できます。主に、15μm~のビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数100nm～数10nmまでの分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例電池材料、電子材料、顔料など粒子破壊が問題となるものの分散処理。・電池材料を数10μmから約200nmまで分散。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまで分散。・液晶カラーフィルター用顔料を数μmから数10nmまで分散。デュアルアペックスミル。日本吉田工业专业销售粉体搅拌机。

    ADV）～**ダメージ均一ナノ分散～図11ウルトラアペックスミルアドバンス特長アッペックスミルシリーズの***型です。WAMの特徴を活かしつつ、ロータ部を扁平化することにより、**ダメージ均一分散ができるビーズミルです。このビーズミルは分散室の高さと幅の比率(L/D)を**適化することで、粒子の滞留時間の短縮及び遠心力の低減により粒子へのダメージを比较低限に***できます。さらに、上下での偏流が少ないため均一な処理が可能です。主に数μm～数100nmの粒子を数100nm～数10nmまでの**ダメージ分散処理を目的に使用します。処理対象例電子材料、金属、電池材料など粒子破壊が問題となるものの分散処理。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまでの低ダメージ分散。・配線材料などの金属を数μmから数100nmまでの粒子変形のない分散。当社ビーズミル構成（ＵＡＭの場合）当社のビーズミルの基本構成はタンク、ポンプ、ビーズミルの３つで構成されています。微細化したい粒子が含まれたスラリーをタンクへ投入し、ビーズミル内にポンプで送液します。日本吉田工业专业生产搅拌机。绍兴搅拌机厂家

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    図７に炭酸カルシウムスラリー中に溶解した塩化ナトリウムの洗浄実施例を示しました。一般的なバッチ式の加圧ろ過と比較して、ロータリーフィルターでは約1／3の洗浄時間で塩化ナトリウム濃度が減少しました。図７洗浄時間と炭酸カルシウムスラリー中NaCl濃度の関係その他、以下の様な洗浄事例があります。洗浄事例業界分類固形物不純物洗浄度磁性材Fe2O3ClCl-10%→<〃〃H2SO4pH<1→〃〃NaOHpH→<9ﾌｧｲﾝｾﾗﾐｯｸZrO2ClCl-→<光学材SiO2ClCl-1000ppm→<10ppm建材Ca3(PO4)2NH4ClpH9→光触媒TiO2NH4ClCl-32g/L→<1g/L化成品Al(OH)3NH4ClCl-2%→電解箔CuHClpH→4塗料顔料NaClCl-10%→2%（２）濃縮・脱水操作一般的な加圧ろ過では、スラリーを脱水後にろ過室を分解し、ケーキを掻き出して回収する必要があります。一方、ロータリーフィルターでは、原料スラリーをろ過し、ろ過室内部に固形分を溜めます。固形分の滞留状態を自動検知し、ケーキ排出バルブを操作する事で、所定濃度に脱水されたケーキを自動排出します。この様な自動排出機構により、クリーム状で流動性のあるケーキを連続的に回収出来ます。常州搅拌机供应

吉田工业科技（南通）有限公司位于江苏省南通市，注册资本3000-5000万元，旗下拥有51~100人优秀专业的员工。在日本吉田工业近多年发展历史，公司旗下现有品牌吉田工业科技等。公司坚持以客户为中心、机械设备市场为导向，重信誉，保质量，想客户之所想，急用户之所急，全力以赴满足客户的一切需要。诚实、守信是对企业的经营要求，也是我们做人的基本准则。公司致力于打造高品质的[ "混合设备", "输送设备", "过滤设备" ]。

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