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磁控溅射掩膜板，磁控溅射掩膜板，磁控溅射模具主要用于磁控溅射样品固定或托盘类的治具，起到固定磁控溅射样品的作用，产品使用材质SUS304H或SUS316材质材料的厚度。磁控溅射产品简介：磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长。创阔金属专业提供磁控溅射掩膜版，具体多种设计制造经验，服务于众多国内高校及中科院所属单位。

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