DAM）～処理後も粒子形状を維持～図10デュアルアペックスミルモータが1台の1軸式のデュアルアペックスミルもラインナップされております。お客様ニーズにより、1軸式，天津液体过滤器价格、2軸式が選定可能です。特長UAMのビーズ分離部と攪拌部を個別に回転させることができるビーズミルです。ビーズ攪拌部が低周速の場合でもビーズ分離部を高周速で運転することができます。そのため，天津液体过滤器价格，天津液体过滤器价格、高いビーズ分離能力を維持しつつ、強粉砕から低ダメージ分散まで様々な処理に対応できる***機です。主に、15μm～のビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数μm～数100nmまでの粉砕、数100nm～数10nmまでに分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例顔料、電子材料などの粉砕・分散及び粒子破壊が問題となるものの分散処理。・液晶カラーフィルター用顔料を数μmから数10nmまでの低ダメージ分散。・ハードコート用ジルコニアを数ミクロンから数10nmまでの低ダメージ分散。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまでの低ダメージ分散。ウルトラアペックスミルアドバンス。

    その小破片がバインダーとなり、粒子同士が凝集する再凝集が発生し分散処理ができません。したがって、衝突エネルギーが小さく、衝突頻度の多い小径ビーズでの分散処理をすることが粒子を破壊することなく分散処理するために重要となります。一般的に、目的粒子径が小さくなればなるほど小径ビーズを選定する必要があります。分散処理においても、ビーズサイズは目的粒子径の1000~2000倍にすることが望ましいです。ただし、分散処理においては、目的粒子径がナノサイズ（10~200nm）の場合が多いため、選定されるビーズサイズは一般的に粉砕よりも小さいものになります。例えば、目的粒子径が100nmの分散処理では、100μm前後のビーズを選定することが一般的です。一方、10nmの分散処理では、30μm以下、場合によっては20μm以下のビーズを選定することが必要です。このように、分散処理においては処理目的物の目的粒子径に適した微小ビーズを使用することが適正な処理を実行するための重要な要素です。図4目的粒子径による適正なビーズサイズビーズミルの選び方前段で説明したように、処理目的によって適正なビーズサイズを選定することが非常に重要です。

    超微細孔のセラミックフィルターを使用する事でナノサイズの粒子も完全に捕捉でき、ろ過後のろ液は清澄となりました。運転時間とろ過速度の関係ろ過後のろ液清澄性確認図８酸化チタンナノ粒子のろ過実施例仕様及び採用例機種ロータリーフィルター［ＲＦ］セラミックロータリーフィルター［ＣＲＦ］適用粒子サイズ微粒子超微粒子サブミクロン～100μmナノ～サブミクロン処理内容洗浄、濃縮、脱水洗浄、濃縮ろ材ろ布セラミックフィルターろ過速度※１)200～2000L/m2hr20～500L/m2hrろ過室標準材質※２）SUS304SUS304採用例１．電子部品材料（M、磁性体等）２．二次電池向け材料３．金属水酸化物、酸化物４．顔料（トナー、カラーフィルターレジスト等）５．化粧品材料（炭酸カルシウム、酸化チタン等）６．金属のリサイクル７．原子力設備の廃水処理1．機能性材料（無機ナノ粒子）2．クーラント液中の固形分除去3．ラテックス4．食品材料（ワイン、ビール等の沈殿物除去等）※１）ろ過速度は、ろ過面積あたりのろ液排出量です。※２）材質はSUS304の他、SUS316、SUS316L、チタン、ポリプロピレン（耐酸仕様）等、液性状に合わせて製作致します。（参考文献）1.院去貢。

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