为了快速达到研磨粒径要求且使研磨机可以正常地运转，所需控制之法则及参数如下： （1）依照所需粒径要求洗择适当的磨球。例如，若需达到纳米级要求且避免磨球损耗，需选择氧化锆磨球，莫氏硬度越大越好，磨球表面需为真圆，没有孔隙，磨球大小为0.5—0.4 mm。磨球选择适当与否将会决定能否成功地研磨到所欲达到粒径要求。 （2）依据磨球大小及浆料站滞性调整适当的搅拌转子转速。一般纳米级研磨，转速需达12.5 m/sec以上。 （3）控制研磨浆料温度。一般纳米级浆料之研磨温度需控制在45℃以下。影响到浆料温度之主要参数为控制转子转速、磨球充填率、研磨桶热交换面积大小，氧化锆超细棒销砂磨机欢迎来电、冷却水条件及流量。 （4）依据磨球大小选择适当动态分离系统间隙。一般间隙为磨球直径之1/2一1/3。 （5）调整Pump转速。在研磨桶可以接受压力范围内，Pump的转速越大越好。 如此，可以于同一研磨时间内增加浆料经过研磨机研磨次数以得到较窄粒径分布，氧化锆超细棒销砂磨机欢迎来电。 （6）记录研磨机所需消耗之电能kW值。 （7）取样时，记录每个样品之比能量（specific energy）值，并于分析该粒径大小后，氧化锆超细棒销砂磨机欢迎来电，将比能盆与平均粒径关系做出，以利将来Scale up用。

砂磨机发展经历了哪几个阶段？ 砂磨机属于湿法超细研磨设备，是从球磨机发展而来，广泛应用于超细粉体(亚微米级粉体)的生产过程中。砂磨机有不同的分类方式：根据搅拌轴的结构形状可分为盘式，棒式，棒盘式(既凸块式)。根据研磨筒的布置形式可以分为立式。 砂磨机发展大概经历了以下几个阶段： 第一阶段：立式搅拌磨(底部筛网分离器+棒式研磨原件) 第二阶段：立式圆盘砂磨机(盘式+顶部筛网分离器) 第三阶段：立式销棒砂磨机(棒式+顶部缝隙分离器) 第四阶段：卧式圆盘砂磨机(盘式+动态转子离心分离器) 第五阶段：卧式销棒循环砂磨机(棒式+超大过滤面积分离器) 球磨机不论是研磨原理，还是研磨细度及应用领域都与砂磨机不大相同。而立式搅拌磨毕竟有了不借助地球重力而具有**的能量输入者，可以认为是研磨设备的一场技术**。搅拌磨由于转速低，介质尺寸教大，沿销棒径向线速度梯度变化大，故研磨效率较低，产品粒度分布宽。所以，搅拌磨逐步被砂磨机挤出市场，现*用于硬质合金，铁氧体研磨或预研磨。

顾名思义，研磨定义即是利用剪切力（shear force）、摩擦力或冲力（impact force）将粉体由大颗粒研磨成小颗粒。分散定义为使纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离（separating）润湿（wetting）分布（distributing）均匀及稳定（stabilization）目的。在做纳米粉体分散或研磨时，因为粉体尺度由大变小的过程中，凡得瓦尔力及布朗运动现象逐渐明显且重要。所以，如何选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及如何选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响，将成为湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。

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