4)分解・洗浄性が良好です機内を構成する主要部品の部品点数が少なく、またシンプルな構造であるため、簡単に分解及び洗浄が可能です。また、そのシンプルな構造は浸置き洗浄や無分解でのCIP（定置洗浄）への適用性が高く、装置を容易に清潔に維持する事ができます。化粧品や食品などの清潔さを要する製品の製造においては、本装置の良好な洗浄性が有効であり、日々の分解及び洗浄の含めた運用を容易化できます。(５)乳化・混合・分散の研究・開発用途に**適です本装置はシンプルな構造でありながらも，山东**给料阀供应商、運転条件の変更のみで様々な製品の製造に活用できます。また小型の装置を用いる事で、それぞれの乳化処方に適した運転条件を簡単に構築する事が可能であり、1台で多品種の商品開発を促進する事が可能です。また、本装置はシンプルな構造のため、小型の装置で構築した運転条件を元に、スムーズに生産機へスケールアップする事ができます。更に本装置は、乳化処理だけではなく『低ダメージでの分散』，山东**给料阀供应商、『各種材料の混合』，山东**给料阀供应商、『ファイバー状物質の均一混合』といった多用途に用いる事が出来るため、様々な原料を用いる研究・開発用途に**適です。

    WAM）～大流量により短時間で均一化～図9フォールレングス-セパ・アペックスミル特長UAMのビーズ分離部を拡大し、これにビーズの分離と攪拌の両機能を持たせた新型ロータを採用することで、UAMよりもビーズ分離能力を向上させたビーズミルです。ビーズ分離能力を高くしたことで、大流量(UAMの3倍)で運転することができ、短時間で多くのパス数が得られます。そのため、短時間で粒子径を均一化することができます。さらに、このロータは、攪拌ピンよりも衝撃力が小さいため、ビーズ衝撃力がUAMより小さくなり、分散処理時に、粒子へのダメージが***できます。主に、15μm~のビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数100nm～数10nmまでの分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例電池材料、電子材料、顔料など粒子破壊が問題となるものの分散処理。・電池材料を数10μmから約200nmまで分散。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまで分散。・液晶カラーフィルター用顔料を数μmから数10nmまで分散。デュアルアペックスミル。

    ビーズミルはビーズ分離方式によって、適用できるビーズサイズが異なります。したがって、まず適正なビーズサイズを決めた後、そのサイズのビーズを分離できる分離方式のビーズミルを選定します。そのため、ビーズ分離方式はビーズミルを選ぶために**も重要な要素となります。ビーズ分離方式はスリット方式、スクリーン方式、遠心分離方式に大別され、以下のような特徴があります。スリット方式狭い隙間にスラリーを通過させることで、スラリーとビーズを分離する方式です。基本的にはのビーズに対応するビーズミルです。隙間で分離するので、高粘性のスラリーに対してもビーズが漏れることなく安定した運転ができます。ただし、隙間は使用したいビーズ径の1/3程度に設定する必要があるので、のビーズでは粗粒による目詰まりが起こりやすくなります。スクリーン方式スリット方式と同様に隙間を利用した分離方式です。基本的にはのビーズに対応するビーズミルです。スリット方式と比べてスラリーの通過面積を広く設定することができるので、スリット方式よりも小さなビーズを使用することができます。

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