光掩膜板，用于科学研究实验仪器配件，半导体，通讯等，创阔金属制作光掩膜板时采用的材料是：SUS304不锈钢等，用的材料厚度0.1mm-1.0mm，产品特点，各种复杂外形蚀刻加工无毛刺。创阔金属本着“专注创新，以质为根，专心服务，以客为尊”的理念和本着负责，公开的原则向您郑重承诺： 1.我司以稳定的，***的光掩膜板原材料进货渠道，先进的生产工艺，强大的技术力量配置及先进的生产设备来保证产品品质，四川MASK掩膜板承诺守信。2.光掩膜板样品制作：配备样品制作小组，在三个工作日内完.3.我司以强大的技术力量和先进的生产设备来保证准时的交货期限。 4.交货方式：以安全，美观，环保的捆包方式，24小时不间断发货，如需快递可在48小时内到达，于我司合作的快递公司为国内**品牌顺丰快递。 5.售后服务：客户对我司光掩膜板提出质量异议，公司会在接到客户提出异议后12小时内作出处理意见，若需现场解决，将会派出专业技术人员及品质人员，四川MASK掩膜板承诺守信，并做到质量问题不解决服务人员不撤离，对每次客户反馈的蚀刻产品质量问题及处理结果我司将予以存档，四川MASK掩膜板承诺守信。 创阔金属制品有限公司 期待与您合作，欢迎来电咨询！

    磁控溅射掩膜板，磁控溅射模具，溅射镀膜掩膜版，磁控溅射掩膜板，，主要用于磁控溅射样品固定或托盘类的治具，起到固定磁控溅射样品的作用，产品使用材质SUS304H或SUS316材质材料的厚度。磁控溅射产品简介：磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长。创阔金属专业提供磁控溅射掩膜版，具体多种设计制造经验，服务于众多国内高校及中科院所属单位。

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