また、200nm以下までの微細粒子の粉砕においては、ビーズサイズの選定が非常に重要になります。大径ビーズではビーズ間の隙間は広くなります。隙間が広がることで、微細粒子はビーズと接触しにくくなるので、微細粒子には小径ビーズを用いた微細化処理が適しています。ビーズサイズの選定としては、原料中の比较大粒子の10~20倍、粉砕後の粒子サイズの約1000~2000倍を目処に設定します。例えば、炭酸カルシウムを100nmまで粉砕する場合は、のビーズを使用することが望ましいです。図3ビーズサイズによる微細化効率分散処理では基本的な分散処理でのビーズ選定の考え方は、粉砕処理の場合に似ていますが、過度の一次粒子粉砕を防止するという観点が加わります。分散の場合は分散エネルギーの調整が非常に重要となります。分散は，湖北乳化泵，湖北乳化泵、微小な粒子の**体を解す処理です。粒子の一つ一つの大きさは目標とする粒子の大きさに作られているので、粉砕のように粒子を破壊するほどのエネルギーは必要ありません。むしろ，湖北乳化泵、分散エネルギーが強すぎると、粒子が破壊されて粒子の小破片が発生します。

    以下に、①二液及び三液供給方式、②1パス連続処理方式、③循環運転方式の３種類の運転方式の特徴を示します。①二液及び三液供給方式本装置は水相原料と油相原料を直接機内へ供給し、直接乳化処理を行う二液及び三液供給方式を採用する事が可能です。二液及び三液供給方式は、プレミックスを行う事なく乳化釜と同等の品質の製品を製造可能であり、前処理工程を省略したシンプルな工程を構築する事ができます。また、タンク加温設備や撹拌機、供給ポンプなどの様々な付帯設備を組み合わせる事により、御要望に応じた原料加温・撹拌から乳化までの生産プロセスの簡略化が可能です。②1パス連続処理方式機内に供給された全ての液体は、全量均質なせん断力を受ける構造であるため、1パス連続処理方式でも均質なエマルションの製造が可能です。市販の乳液と同等のミクロンレベルの乳化物の連続生産が可能であり、小型の装置を用いた場合でも循環運転方式と比較して大量の乳液を生産する事が可能となる運転方式です。

    DAM）～処理後も粒子形状を維持～図10デュアルアペックスミルモータが1台の1軸式のデュアルアペックスミルもラインナップされております。お客様ニーズにより、1軸式、2軸式が選定可能です。特長UAMのビーズ分離部と攪拌部を個別に回転させることができるビーズミルです。ビーズ攪拌部が低周速の場合でもビーズ分離部を高周速で運転することができます。そのため、高いビーズ分離能力を維持しつつ、強粉砕から低ダメージ分散まで様々な処理に対応できる***機です。主に、15μm～のビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数μm～数100nmまでの粉砕、数100nm～数10nmまでに分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例顔料、電子材料などの粉砕・分散及び粒子破壊が問題となるものの分散処理。・液晶カラーフィルター用顔料を数μmから数10nmまでの低ダメージ分散。・ハードコート用ジルコニアを数ミクロンから数10nmまでの低ダメージ分散。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまでの低ダメージ分散。ウルトラアペックスミルアドバンス。

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