ADV）～**ダメージ均一ナノ分散～図11ウルトラアペックスミルアドバンス特長アッペックスミルシリーズの***型です。WAMの特徴を活かしつつ、ロータ部を扁平化することにより、**ダメージ均一分散ができるビーズミルです。このビーズミルは分散室の高さと幅の比率(L/D)を**適化することで、粒子の滞留時間の短縮及び遠心力の低減により粒子へのダメージを比较低限に***できます。さらに、上下での偏流が少ないため均一な処理が可能です。主に数μm～数100nmの粒子を数100nm～数10nmまでの**ダメージ分散処理を目的に使用します。処理対象例電子材料，江苏分散乳化泵生产厂家、金属、電池材料など粒子破壊が問題となるものの分散処理。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまでの低ダメージ分散。・配線材料などの金属を数μmから数100nmまでの粒子変形のない分散。当社ビーズミル構成（ＵＡＭの場合）当社のビーズミルの基本構成はタンク，江苏分散乳化泵生产厂家、ポンプ，江苏分散乳化泵生产厂家、ビーズミルの３つで構成されています。微細化したい粒子が含まれたスラリーをタンクへ投入し、ビーズミル内にポンプで送液します。

    UAM）～遠心分離式のスタンダード～図7ウルトラアペックスミル特長世界で**初に遠心分離方式を採用したビーズミルであり、の微小ビーズを使用するのに**適な装置です。サブミクロン粉砕からナノ分散までいろいろな用途に対応できます。世界**小水準の15μmビーズまで使用可能で、世界で初めてナノ分散処理に対応したビーズミルです。主に、15μm~1mmのビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数μm～数100nmまでの粉砕、数100nm～数10nmまで分散することを目的に使用します。処理対象例顔料、化粧品、電子材料、食品などの粉砕・分散処理。・インクジェット用顔料を数μmから数10nmまで分散。・化粧品用酸化チタンを数μmから数10nmまで分散。・ハードコート用ジルコニアを数μmから数10nmまで分散。・食品添加物用の炭酸カルシウムを数ミクロンから約100nmまで粉砕。ウルトラアペックスミル（UAM）受賞歴遠心分離方式は当社が世界で初めて開発した技術遠心分離方式は、当社が1995年に世界で初めて開発した技術です。遠心分離方式を開発し、様々な賞を受賞しました。図8ウルトラアペックスミルの授賞例フォールレングス-セパ・アペックスミル。

    WAM）～大流量により短時間で均一化～図9フォールレングス-セパ・アペックスミル特長UAMのビーズ分離部を拡大し、これにビーズの分離と攪拌の両機能を持たせた新型ロータを採用することで、UAMよりもビーズ分離能力を向上させたビーズミルです。ビーズ分離能力を高くしたことで、大流量(UAMの3倍)で運転することができ、短時間で多くのパス数が得られます。そのため、短時間で粒子径を均一化することができます。さらに、このロータは、攪拌ピンよりも衝撃力が小さいため、ビーズ衝撃力がUAMより小さくなり、分散処理時に、粒子へのダメージが***できます。主に、15μm~のビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数100nm～数10nmまでの分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例電池材料、電子材料、顔料など粒子破壊が問題となるものの分散処理。・電池材料を数10μmから約200nmまで分散。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまで分散。・液晶カラーフィルター用顔料を数μmから数10nmまで分散。デュアルアペックスミル。

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