9m/sという強い周速で処理したので、粒子が再凝集し透過率が低下したと考えられます。これらの結果から、低周速で分散処理を行うことで、高品質なUVカット用の酸化チタンスラリーが得られることがわかりました。このことから，上海循环式乳化泵生产厂家、DAMは低ダメージでの処理が要求される製品に対して，上海循环式乳化泵生产厂家、有効なビーズミルであることがわかります，上海循环式乳化泵生产厂家。その他の微粒化実施例図18粒子径の経時変化(チタン酸バリウム)図19粒子径の経時変化(ITO)図20粒子径の経時変化(ジルコニア)図21粒子径の経時変化T)当社ビーズミルの実績図22当社ビーズミルの適用分野ラインナップアペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質量(kg)AM-550AM-0750AM-501200AM-AM-ウルトラアペックスミル、フォールレングス・セパ・アペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質量(kg)UAM(WAM)-0100UAM(WAM)-00200UAM(WAM)-00300UAM(WAM)-50450UAM(WAM)-2100550UAM(WAM)-UAM(WAM)-デュアルアペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質量。

    DAM）～処理後も粒子形状を維持～図10デュアルアペックスミルモータが1台の1軸式のデュアルアペックスミルもラインナップされております。お客様ニーズにより、1軸式、2軸式が選定可能です。特長UAMのビーズ分離部と攪拌部を個別に回転させることができるビーズミルです。ビーズ攪拌部が低周速の場合でもビーズ分離部を高周速で運転することができます。そのため、高いビーズ分離能力を維持しつつ、強粉砕から低ダメージ分散まで様々な処理に対応できる***機です。主に、15μm～のビーズを使用し、数10μm～数μmの粒子を数μm～数100nmまでの粉砕、数100nm～数10nmまでに分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例顔料、電子材料などの粉砕・分散及び粒子破壊が問題となるものの分散処理。・液晶カラーフィルター用顔料を数μmから数10nmまでの低ダメージ分散。・ハードコート用ジルコニアを数ミクロンから数10nmまでの低ダメージ分散。・積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを数μmから数100nmまでの低ダメージ分散。ウルトラアペックスミルアドバンス。

    しかし、のビーズでは、スリット式と同様に粗粒による目詰まりが起こりやすくなります。遠心分離方式遠心力によりスラリーとビーズを分離する方式です。基本的には15μm~のビーズに対応するビーズミルです。隙間ではなく遠心力を利用した分離方式なので、スラリーが狭い隙間を通過する必要がありません。そのため、の微小ビーズでも、粗粒による目詰まりは起こらないことから、ナノ分散などの微小ビーズ処理に**適なビーズ分離方式です。また、ビーズ径ごとに分離部の隙間調整をする必要がないので、人為的なミスも起こりません。いずれのビーズ分離方式にもそれぞれの特徴があり、目的粒子の処理前粒子径及び目標粒子径により**適なビーズサイズを選定し、そのビーズの分離に**適なビーズ分離方式のビーズミルを選定することが重要です。サブミクロンまでの粉砕処理には、スリット方式、スクリーン方式が採用されることが多く、ナノ粉砕・ナノ分散には、遠心分離方式が採用されることが多いです。図5各ビーズサイズに適した分離方式横型と竪型の比較ビーズミルは大別すると、粉砕・分散室が横型と竪型のミルがあります。

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