GY-QX系列等离子清洗机定位于工业生产型低温等离子体处理设备，广泛应用于电子、太阳能、汽车、纺织、包装印刷、生物医疗及通用行业，其特点为处理效率高、重复性和稳定性良好，操作方便，工艺参数多样性，执行多样化任务，适用于清洗、活化、提高粘结力、附着力及刻蚀等工艺，并可根据客户不同需求量身定制专业、高 效、稳定的解决方案，完美契合企业和公司的中大型生产需求。 等离子清洗机由反应腔（又称真空腔）、真空系统、放电系统，四川卷对卷等离子处理设备、电控系统，四川卷对卷等离子处理设备，四川卷对卷等离子处理设备、进气流量控制系统组成。 反应腔由真空室和电极组成，是等离子体反应空间，待处理物品置于反应腔内；真空系统由真空计、真空泵以及真空管路组成，负责将反应腔内的空气抽净并在工作时维持适当的真空度；放电系统为反应腔提供信号和能量，以激发反应腔内的反应气体电离形成所需要的等离子体；电控系统的作用是按照比较好的工艺参数和步骤控制设备的动作过程，并维持工艺参数的稳定；进气流量控制系统主要由质量流量计和电磁阀门组成，其作用是精确控制反应气体的进气流量，并维持工作期间所需要的真空度。

OPS Plasma是一家专业从事等离子表面处理，集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体的****。 OPS Plasma始建于2006年，专注于实验型等离子体处理设备。2010年公司加大投资，扩大规模，建立了苏州市低温等离子体工程技术研究中心和生产基地，苏州奥米格机电科技有限公司正式更名为苏州市奥普斯等离子体科技有限公司，开始生产工业化Plasma设备。 OPS Plasma的创始人兼研发负责人王红卫博士，在德Fraunhofer-Gesellschaft留学期间积累了丰富的设计开发经验，由其带领的研发和制造团队拥有10年以上的等离子系统设计经验和等离子设备制造经验，已成功开发出多款适用于不同行业的等离子处理设备。截止目前已申请国 家**共64项（其中发明32项、实用新型31项、软著1项），高新技术产品3项，并于2015年获得****的称号。

等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应，不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。 等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

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