物理成膜能分为热蒸发、溅射、分子束外延MBE和离子镀这四种，其中热蒸发、溅射和离子镀这些镀膜方法还有下属细分。热蒸发镀膜下能分为电阻丝加热、石英坩埚加热、电子束加热和高频感应蒸发。溅射镀膜又能细分为磁控溅射、离子束溅射、脉冲激光沉淀、三级和四级溅射、直流二级溅射和射频溅射。离子镀又能细分为直流二级型，惠东EMI屏蔽镀膜厂商、射频放电离子镀，惠东EMI屏蔽镀膜厂商，惠东EMI屏蔽镀膜厂商、电弧放电型真空、零气压溅射和自溅射这几种。镀膜技术非常多样化，但是有些镀膜技术还是有特定的使用要求的。

真空镀膜并单独局限在某一种方法上，是可以采用多种方法实现真空镀膜的，包括真空蒸镀、阴极溅射镀膜、化学气相沉积、离子镀膜等。所谓的真空蒸镀是把需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。所谓的阴极溅射镀是把需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。所谓的化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。离子镀稍微用的少一点。

    真空镀膜虽然实现起来相比传统的水电镀膜难度增加了不少，但是不可否认是这是一种创新的可把材料合成与加工的新型技术。真空镀膜技术是通过物理化学手段把物体表面覆盖涂上议程特殊性能的镀膜，以此让加工后的物体表面具有耐磨、耐高温、耐腐蚀、防辐射、导电绝缘、防氧化等优点。如果别附着附体本身的质量性能足够良好的话，进行镀膜处理则能延长产品的使用寿命，或者达到更为经济的效益。从目前的应用来看，真空镀膜还是非常具有发展前提的一技术。

免责声明： 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息，均来源于其对应的用户，本网对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题，请及时与本网联系，我们将核实后进行删除，本网站对此声明具有最终解释权。