大家都知道现在化学镀铜和电解镀铜是两种主要的镀铜方式，电解镀铜在镀铜中会使用到添加剂，同样的化学镀铜在镀铜过程中也是会使用道一些添加剂的。化学镀铜中常使用到的添加剂有稳定剂、促进剂和镀层改进剂等。镀铜稳定剂是化学镀铜的重要组成部分，柜员机控制面板镀铜厂家，柜员机控制面板镀铜厂家，在实际化学镀铜会有许多不稳定的因，不管是工艺配方和操作条件的变化还是杂质的混入或装载量的变化，都会引起化学镀铜的不稳定反应导致镀液失效，柜员机控制面板镀铜厂家。促进剂则是提高化学镀铜的沉积速率，改进剂主要是用来完善沉铜层的物理性能。

化学镀铜是将有钯等催化活性物质的表面，然后通过甲醇等还原剂的参与，促使铜元素（离子）被还原析出。化学镀铜相比与电解镀铜，其优势体现在适用的基体范围广；镀出来的铜膜厚度均匀光滑；加工所使用用的设备较为简单；镀出来的铜层物理化学性能良好稳定。电解镀铜相比化学镀铜，它常用在铸模、镀镍、镀铬等其他镀层的打底处理，用来修复基体磨损部分，并防止局部出现渗碳和提高基材的导电性能。电解镀铜可以细分为碱性镀铜和酸性镀铜这两种方法，该方法镀出来的膜层细致光滑且厚度比较薄。

除了添加剂、PH值这些会影响到电解镀铜的质量和效果外，温度、电解波形、电流和搅拌都是会影响到电解镀铜的质量和效果的。电解中的溶液温度的升高能扩散加快，降低浓差极化，温度降低则会反之。电流波形则会影响通过阴极电位和电流密度的变化来影响阴极沉积过程，影响铜层的组织结构。电流密度的变化的上限和下限是由电镀液的本性、浓度、温度和搅拌等因素决定的，它主要是影响铜层厚度。搅拌则会降低阴极极化，使得粒子变粗，这个可以通过提高电流提高生效效率进行解决。

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