在镀铜的时候为了确保镀出的膜纯度高一些，因此要在镀铜工艺中去除杂质，尤其是要排除镀膜溶液中铁离子污染的情况，这个是十分影响镀铜纯度的。可以使用镀铜稀释法，根据铁离子的含量让其稀释后根据检测结果给予溶液补充铬酐和硫|酸。也可以使用离子交换法，通常会使用强酸阳离子交换树脂。另外，除了镀铜稀释法、离子交换法外，电子触摸笔镀铜生产商，还可以使用镀铜隔离电解法，把溶液注入阴极室进行电解处理，电子触摸笔镀铜生产商，将Cr6+还原成Cr3+，能使得溶液的PH值升高，使得铁等金属离子生成氢氧化物沉淀，电子触摸笔镀铜生产商、过滤和去除。这三种方法是常见的用来去除镀铜溶液里铁杂质的操作方法。

影响电解镀铜镀出的镀层的质量的因素包括有前处理因素、电镀药液因素和工艺条件控制因素。电解镀铜中镀层与基材之间的粘接力、防腐性和外观质量的好坏是与基材零件表面处理工作的好坏成正比关系，表面处理的越干净镀层效果越好。电解中使用到的电解液总会因为各种因素将杂质带入电镀液中，这些杂志未处理干净是会直接影响到铜膜蕞后的效果。电镀铜中工艺条件的控制直接影响着电镀层的质量，这就表面厂家掌握和控制好不同镀种的各工艺条件才能获得质量比较好的镀层。

另外可以从镀铜工件和改善几何因素入手去排查这些会在镀铜过程中造成镀层不均匀的情况。在镀铜过程会发现，同样一批挂件，有的工件镀出来的层会发花发雾面，反复镀层也是无法解决，造成这样的问题可能是上部工件与镀液太近，所以其电力线比较低而影响质量。改善镀铜过程的几何因素，可以采用象形阳极法、保护阴极法、辅**极法、调整阳极表面积法、控制镀液导电空间法、多次镀铬法等方法，来改善电力线分布的均匀性，可以是单独使用某一种方法，也可以是多种方法联合使用。

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