主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氯化硼和乙硼烷等。通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合,混合后气流连续流入扩散炉内环绕晶片四周,在晶片表面沉积上化合物掺杂剂,进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅。7.熏蒸气体(SterilizingGases):具有**作用的气体称熏蒸气体。常用的气体品种有环氧乙烷、磷烷、溴甲烷、溴甲醛、环氧丙烷等。其**原理是利用烷化作用,使微生物**内维持生命不可缺少的物质惰化。**经常使用的是以不同比例配制的环氧乙烷和二氧化碳的混合气,根据用途不同,环氧乙烷的含量可以是10%、20%和30%等。也可采用环氧乙烷和氟利昂12的混合气,环氧乙烷与氟利昂11和氟利昂12的混合气等。**效果与各组分浓度、温度、湿度、时间和压力等因素有关。熏蒸气体可以用于卫生材料、医疗器具、化妆品原料、动物饲料、粮食、纸钞、香辣8.焊接保护气体(WeldingGases):气体保护焊由于具有焊接质量好,效率高,易实现自动化等***而得以迅速发展。焊接保护气体可以是单元气体,也有二元、三元混合气。采用焊接保护气的目的在于提高焊缝质量,减少焊缝加热作用带宽度,避免材质氧化。单元气体有氩气、二氧化碳,二元混合气有氩和氧。重庆气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。重庆乙烯标准气体生产
CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases):蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉,而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。6.掺杂气体(DopantGases):在半导体器件和集成电路制造中,将某种或某些杂质掺入半导体材料内,以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率,用来制造PN结、电阻、埋层等。掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体。重庆丙烷标准气体批发商成都一氧化氮标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益***。1.特种气体(Specialtygases):指那些在特定领域中应用的,对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可区分为电子气体、标准气、**气、医用气、焊接气、**气等,***用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。2、标准气体(Standardgases):标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值准确的测定标准,它们具有复现、保存和传递量值的基本作用,在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校.d([准测量仪器和测量过程,评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力,确定材料或产品的特性量值。
氩气是无色、无味、单原子的惰性气体,原子量为39.948,密度为1.78kg/m3(空气密度为1.29kg/m3)。氩气的重量是空气的1.4倍,可在熔池上方形成一层稳定的气流层,具有良好的保护性能。另外在焊接过程中,产生的烟雾较少,便于控制焊接熔池和电弧。氩气是一种惰性气体,在常温下与其它物质均不发生化学反应,在高温下也不溶于液态金属中,故在焊接有色金属时更能显示其优越性氩气是一种单原子气体,在高温下,氩气直接离解为正离子和电子,因此能量损耗低,电弧燃烧稳定。同时分解后的正离子体积和质量较大,对阴极的冲击力很强,具有强烈的阴极破碎作用。氩气对电弧的冷却作用小,所以电弧在氩气中燃烧时,热量损耗小,稳定性比较好。氩气对电弧的热收缩效应较小,加上氩弧的电位梯度和电流密度不大,维持氩弧燃烧的电压较低,一般10V即可。故焊接时电弧拉长,其电压改变不大,电弧不易熄灭。这点对手工氩弧焊非常有利。氩气是制氧的副产品,因为氩气的沸点介于氧、氮之间,差值很小,所以在氩气中常残留一定数量的杂质。焊接用氩气按我国GB4842-84(氩气及其检验方法)标准要求,其纯度应达到99.99%。具体技术要求见下表,如果氩气中的杂质含量超过规定标准。成都乙烯标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
标准气体有哪些规格?标准气体是一个衡量标准,它具有良好的稳定性和量值准确的测定标准,在物理,化学,生物与工程测量领域中用于校准测量仪器和测量。国家将标准气体的标准分为一级标准物质和二级标准物质,目前大部分气体厂家生产的都是二级标准物质。标准气体的规格我们可以按照以下几种情况分类:按产品组分分:基本可分为两组分、三组分和多组分标准气体。按产品用途分:大致分为环境监测类标准气体、仪器仪表类标准气体、医疗卫生类标准气体、气体报警类标准气体、电力能源类标准气体、石油化工类标准气体等。需要注意的是,虽然使用同一种仪器但是由于使用地点和操作方法等因素不同,同一种仪器所使用的标准气体的参数也会略有不同。采购标准气体时请务必提供准确的使用参数!常见的产品包装规格:4L/8L/40L,有些会因为气体使用场地的限制,对气瓶的高度和直径有特定要求,需要特殊的包装规格,我们一般称为异形包装,这种包装通常需要定制,因此需要提前核实货期哦~侨源可根据您的需要定制标准气体,想了解标准气体价格请拨打:24小时贴心服务:如果您对以上纽瑞德气体感兴趣或有疑问。四川工业气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。四川乙烷标准气体供应厂家
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标准气体静态配气静态配气[4]是把一定量的液体或原料气加到已知容积的稀释气体的容器中,混合均匀。根据所加入的液体或原料气的量和容器的容积,即可计算出所配制标准气体的浓度。常用的静态配气技术有以下几种。1.大瓶子配气法将大容积的玻璃瓶或聚乙烯塑料瓶洗净、烘干,充入干净空气代替瓶中原有气体后,抽成负压,再充入一定量的液体或原料气。若原料在常温下是气体,用气体定量管加入(见图1),充入干净空气至常压。若原料是挥发性液体,可在一个小安培瓶中称取一定量的液体,放入大瓶中,抽气使成负压,再摇碎安瓶,待液体挥发后,再充入干净空气到常压。大瓶子配气法所制得的标准气体的浓度,可根据加入原料气的浓度或液体的量及大瓶子的容积求得:当加入瓶中的是原料气时,按下式计算:740)">式中:V1:原料气的体积(mL);L:原料气的浓度(ppm);V0:大瓶子的容积(L);Z:所配气体的浓度(ppm);当加入瓶中的是挥发性的液体时:740)">式中:t:气体的温度(℃);m:加入液体的量(g);M:液体的摩尔质量(gömol);Z和V0同上式。740)">用大瓶子配气时,由于器壁的吸附作用,配成的标准气体的实际浓度往往比计算值低。为避免这种影响,可以将***次配好的气体放置一段时间后抽掉,再进行第二次配气。重庆乙烯标准气体生产
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