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Etch闸阀法兰闸阀 上海安宇泰供应

信息介绍 / Information introduction

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,这里介绍一下阀门控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遥控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,开放/关闭速度LCD显示;2,当阀门或泵错误时,灯点亮:3,自动关闭功能-防止泵跳闸中的逆流;4,有阀门开关位置的信号输出信号;5,锁定功能-本地/遥控器在解锁后进行快速操作;6,无噪音,功耗低;7,历史管理-打开/关闭/泵关闭等;8,UPS功能(1秒),微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。微泰转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。Etch闸阀法兰闸阀

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微泰,传输阀 (I-MOTION)、I型转换阀、输送阀、转移阀应用于晶圆加工,半导体加工,可替代VAT闸阀。其特点是• 主体材料:铝或不锈钢• 紧凑型设计• 使用维修配件工具包易于维护• 应用:半导体系统中小于 450mm 晶圆的传输和处理室隔离,传输阀 (I-MOTION)、输送阀、转移阀规格如下:闸门密封类型:传输阀 (I-MOTION)、右动转换阀、驱动方式:气动、法兰尺寸(内径) 32×222/46×236/50×336/56×500 、连接方式:焊接波纹管、闸门密封 Viton O 形圈/硫化密封件、阀盖密封:氟橡胶O型圈、响应时间:≤ 2 sec、工作压力范围:1×10-10 mbar to 1200 mbar、开始时的压差:≤ 30 mbar、开启时压差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不锈钢:< 1×10 -9Mbarℓ/秒/铝:< 1×10 -5  mbar ℓ/秒、维护前可用次数: ≥1,000,000次、阀体温度≤ 200 °、机构温度≤ 80 °C、烤炉温度≤ 200 °C、材料:阀体(不锈钢304)/驱动器(铝6061阳极氧化)、安装位置:任意、操作压力(N2):4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。小型闸阀蝶阀介质可向两侧任意方向流动,易于安装。闸阀通道两侧是对称的。

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微泰半导体闸阀的特点:插板阀主滑阀的球机构方式-在量产工艺设备上的性能验证-由半永久性钢球陶瓷和板簧组成,陶瓷和金属触摸驱动无颗粒-已向中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备,设备厂批量供货,已得到品质认可,已完成对半导体Utility设备和批量生产设备的验证,而其他厂家闸阀金属和金属触摸驱动产生大量颗粒。使用钢陶瓷球,与金属摩擦时不会损坏,金属与陶瓷球之间不会产生Particle,半永久板簧(SUS钢板)的应用确保阀门驱动同步性,采用了固定球导向器和钢陶瓷。微泰半导体闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司。

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。这节介绍加热闸阀、加热式闸阀护套、加热器插入式阀门。带加热器闸阀,加热器插入闸阀:产品范围:2~12英寸•高压/超高压都可用•维护前可用次数:20万次•响应时间:0.2秒~3秒;客户指定法兰,加热温度:450℃;蝶形阀;蝶阀:产品范围:DN40、DN50隔离•泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司闸阀形体简单,结构长度短,制造工艺性好,适用范围广。

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微泰,多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。微泰多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀其特点是•操作模式:本地和远程•紧急情况:自动关闭•慢速泵送功能。多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀规格如下:材料:阀体 STS304, 机制 STS304、法兰尺寸(内径) 4英寸~10英寸、闸门密封 FKM(VITON)、开/关振动 无振动、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、闸门压差 ≤1.4 bar、分子流动电导(ISO100)1891 l/s、阀座 1X10-10 mbarㆍL/秒、泄漏率阀体 1X10-10 mbarㆍL/Sec、压力范围 1X10-10mbar 至 1.4 bar、闸门上任一方向的压差≤1.4 bar、安装位置:任意。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。 微泰闸阀可替代HVA闸阀、VAT闸阀。Etch闸阀法兰闸阀

闸阀的结构紧凑,阀门刚性好,通道流畅,流阻数小,密封面采用不锈钢和硬质合金,使用寿命长。Etch闸阀法兰闸阀

微泰半导体闸阀与其他类型闸阀相比,具有以下一些优势:1. 高精度控制:能更精确地调节流体流量。2. 适应半导体环境:对温度、真空等条件有更好的适应性。3. 低颗粒产生:减少对晶圆等的污染。4. 长寿命和可靠性:确保稳定运行,减少维护成本。5. 多功能应用:可适用于多种半导体工艺设备。微泰半导体闸阀被广泛应用于 Evaporation(蒸发)、Sputtering(溅射)、Diamond growth by MW-PACVD(通过 MW-PACVD 生长金刚石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)、Coating(涂层)、Etch(蚀刻)、Diffusion(扩散)、CVD(化学气相沉积)等设备上,可替代 HVA 闸阀、VA T闸阀。该闸阀由上海安宇泰环保科技有限公司提供。Etch闸阀法兰闸阀

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