随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了，所以必须有±，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。净化工程的设计应考虑到设备的能耗和运行成本。合肥光学净化工程

人员和工艺所产生的悬浮污染可立即被这种空气***掉，而紊流通风系统采用的是混合与稀释原理。在一间没有任何障碍物的空房间，单向流用比前面提到的低得多的风速，就可以很快将污染物***。但在一个操作间，机器以及机器周围走动的人员，会对气流形成障碍。障碍物可以使单向流变成紊流，从而在障碍物周围形成气流团。人员的活动也可以使单向流变成紊流。在这些紊流中，由于风速较低，空气稀释程度较小，从而使得污染浓度较高。因此，必须将风速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分钟至100英尺/分钟）的范围里，以便使中断的单向流能快速恢复，充分稀释障碍物周围紊流区的污染。食品净化工程设计净化工程的实施需确保所有操作符合洁净生产标准。

    无菌操作室注意事项：1.安全注意事项严格无菌操作，防止微生物污染；操作人员进入无菌室应先关掉紫外灯。2.无菌室应设有无菌操作间和缓冲间，无菌操作间洁净度应达到10000级，室内温度保持在20-24℃，湿度保持在45-60%。超净台洁净度应达到100级。3.无菌室应保持清洁，严禁堆放杂物，以防污染。严防一切灭菌器材和培养基污染，已污染者应停止使用。4.无菌室应定期用适宜的消毒液灭菌清洁，以保证无菌室的洁净度符合要求。5.需要带入无菌室使用的仪器，器械，平皿等一切物品，均应包扎严密，万级净化工程标准，并应经过适宜的方法灭菌。6.工作人员进入无菌室前，必须用肥皂或消毒液洗手消毒，然后在缓冲间更换工作服，鞋，帽子，口罩和手套(或用70%的---再次擦拭双手)，方可进入无菌室进行操作。7.无菌室使用前必须打开无菌室的紫外灯辐照灭菌30分钟以上，并且同时打开超净台进行吹风。操作完毕，应及时清理无菌室，再用紫外灯辐照灭菌20分钟。8.供试品在检查前，应保持外包装完整，不得开启，以防污染。检查前，用70％的酒精棉球消毒外表面。9.凡带有活菌的物品，必须经消毒后，万级净化工程造价，才能在水龙头下冲洗，严禁污染下水道。

  空气净化工程专业净化技术的“指导者”前空气净化已经被各行各业的人士所关注，随着经济的迅速发展，空气质量也在变化，所以净化工程成为人们注视的焦点。空气净化是指针对室内的各种环境问题提供杀菌消毒、降尘除霾、祛除有害装修残留以及异味等整体解决方案，提高改善生活、办公条件，增进身心健康。室内环境污染物和污染来源主要包括放射性气体、霉菌、颗粒物、装修残留、二手烟等。空气洁净度等级标准及规范：经济和科技发达的国家和地区都有自己的空气洁净标准和规范标准，净化工程的设计应充分考虑生产过程中的物料流转。

气压规定 对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则： 1．洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。 2.洁净度级别高的空间的压力要高于相邻的洁净度级别低的空间的压力。 压力差的维持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量通过洁净室的各种缝隙时的阻力。 洁净室中的气流速度规定 这里要讨论的气流速度是指 洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。 净化工程的规划应考虑未来技术的发展和升级。空气净化工程安装

净化工程需要考虑能源消耗和节能措施。合肥光学净化工程

ULSI制程大都采用此种型式。 洁净隧道另有二项优点：A.弹性扩充容易； B.维修设备时可在维修区轻易执行。 (2)洁净管道(Clean Tube)：将产品流程经过的自动生产线包围并净化处理，将洁净度等级提至100级以上。因产品和 作业员及发尘环境相互隔离，少量之送风即可得到良好之洁净度，可节省能源，不需人工的自动化生产线为适宜使用。药品、食品业界及半导体业界均适用。 (3)并装局部洁净室(Clean Spot)：将洁净室等级10,000~100,000之乱流洁净室内之产品制程区的洁净度等级提高为10~1000级以上，以为生产之用；洁净工作台、洁净工作棚、洁净风柜即属此类。 合肥光学净化工程

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