**胀大微晶玻璃的结构十分松懈,甚至在高温下还允许某些气体的离子经过网络进行分散,其间以钠离子的分散为相当快。**胀大微晶玻璃的这一功能对于使用者尤为重要,上海专业超低膨胀微晶玻璃,例如,半导体工业用**胀大微晶玻璃作为高温容器或分散管时,因为半导体资料要求很高的纯度,上海专业超低膨胀微晶玻璃,所以要求与**胀大微晶玻璃接触的作为炉衬的耐火资料有必要预先经过高温文清洁处理,除去钾,上海专业超低膨胀微晶玻璃、钠等碱性杂质,然后才能放入**胀大微晶玻璃内使用。**胀大微晶玻璃的光学性能有其独到之处,它既可以透过远紫外光谱,是所有透紫外材料比较好者,又可透过可见光和近红外光谱。用户可以根据需要,从185-3500mμ波段范围内任意选择所需品种。由于**胀大微晶玻璃耐高温,热膨胀系数极小,化学热稳定性好,气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美,所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系统的必不可少的光学材料。
①粗磨的目的是成型,使加工件具有一定的几何形状。用散粒磨料或结合磨料加工石英玻璃表面后,其表面不平度Hcp10~20μm,2.粗磨有的用散粒磨料在磨盘上手工磨,或用结合磨料机械磨。散粒磨料有绿SiC色(金刚砂)和电熔白刚玉等几种;用60#~12#电熔刚玉砂可达到▽2.结合磨料有SiC树脂,金刚石磨轮。粗磨较好在平面磨床或铣床上用结合磨料进行。 ②、细磨:目的是改善表面的粗糙度,使被加工件获得接近完工的几何形状,为抛光打下基础,用散料磨料研磨表面,不平度Hcp<6.3μm;尺寸精度0.5~1.0mm。细磨也有两种:手工散料+平面磨盘,一般选用较小磨盘,线速度12m/s以上,加工件在磨盘上式椭圆形运动,正常自转180度。机械磨,上盘,加工件固定以圆形铸铁平面上。单轴抛光机,双轴泡个脚(H015型)轴抛光机。 ③、精磨:目的是进一步改善玻璃表面智质量,尽量减少抛光必须完全除去的破坏层厚度,并对几何尺寸进一步修正。Hcp<6μm、▽7左右。精磨的主要指标是光洁度,检查方法是在反射光下用肉眼观察。精磨磨料为120~14μm。应尽量避免擦伤。 ④、抛光Hcp<λ;即<0.5μm。抛光的目的是是玻璃光石的微观起伏小于光波波长。精磨石的玻璃即可进行抛光;使玻璃对光线有良好的透过
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