晶圆运送机械吸臂是半导体制造过程中不可或缺的重要设备之一。它主要用于将晶圆从一个工序转移到另一个工序，确保晶圆在整个制造过程中的安全和稳定运输。

晶圆运送机械吸臂具有高度的自动化和精确性。它采用先进的自动控制系统，能够准确地定位和抓取晶圆，避免了人为操作的误差和不稳定性。通过精确的控制，晶圆可以在不同工序之间快速而安全地转移，提高了生产效率和产品质量。其次，晶圆运送机械吸臂具有高度的可靠性和稳定性。它采用了质量高的材料和先进的制造工艺，具有良好的耐磨性和抗腐蚀性。同时，晶圆运送机械吸臂经过严格的测试和检验，确保其在长时间运行中不会出现故障或损坏，保证了生产线的连续性和稳定性。 实现柔性机械臂高精度有效控制也必须考虑系统动力学特性。深圳本地晶圆运送机械吸臂设计

一种用于传送晶圆的真空吸附机械手，其特征在于，包括：手臂；固定在所述手臂上的吸附绝缘凸台；设置在所述手臂和吸附绝缘凸台内的真空气道；所述吸附绝缘凸台呈环形，所述吸附绝缘凸台所围成的空间构成所述真空气道的其中一段；位于所述吸附绝缘凸台内的伪绝缘凸台，所述伪绝缘凸台与手臂一体成型，所述真空气道的其中一段位于所述伪绝缘凸台内；在垂直于所述手臂的方向上，所述吸附绝缘凸台比所述伪绝缘凸台突出；所述吸附绝缘凸台用于吸附待传送晶圆的背面，所述吸附绝缘凸台的硬度小于所述待传送晶圆的背面的硬度。深圳晶圆运送机械吸臂设计实现旋转、升降运动是由横臂和产柱去完成。

晶圆运送机械吸臂广泛应用于半导体制造过程中的各个环节，如薄膜沉积、光刻、蚀刻、清洗、检测等。具体应用举例如下：

薄膜沉积：在薄膜沉积设备中，晶圆运送机械吸臂负责将晶圆从装载室传送至沉积室，以及在沉积完成后将晶圆送回装载室。

光刻：在光刻设备中，吸臂需将晶圆精确传送至光刻机工作台，确保晶圆在曝光过程中的稳定性和精度。

蚀刻：在蚀刻设备中，晶圆运送机械吸臂需将晶圆传送至蚀刻室，并在蚀刻完成后将其送回清洗设备。

清洗和干燥：在清洗和干燥设备中，吸臂负责将晶圆传送至清洗槽，以及在清洗和干燥完成后将其送回下一工艺环节。

检测：在检测设备中，晶圆运送机械吸臂需将晶圆传送至检测台，确保检测过程中的稳定性和准确性。

接下来是单晶硅生长，**常用的方法叫直拉法（CZ法）。如下图所示，高纯度的多晶硅放在石英坩埚中，并用外面围绕着的石墨加热器不断加热，温度维持在大约1400 ℃，炉中的气体通常是惰性气体，使多晶硅熔化，同时又不会产生不需要的化学反应。为了形成单晶硅，还需要控制晶体的方向：坩埚带着多晶硅熔化物在旋转，把一颗籽晶浸入其中，并且由拉制棒带着籽晶作反方向旋转，同时慢慢地、垂直地由硅熔化物中向上拉出。熔化的多晶硅会粘在籽晶的底端，按籽晶晶格排列的方向不断地生长上去。因此所生长的晶体的方向性是由籽晶所决定的，在其被拉出和冷却后就生长成了与籽晶内部晶格方向相同的单晶硅棒。如刚性差则会引起手臂在垂直平面内的弯曲变形和水平面内侧向扭转变形.

割抛光：

单晶棒将按适当的尺寸进行切割，然后进行研磨，将凹凸的切痕磨掉，再用化学机械抛光工艺使其至少一面光滑如镜，晶圆片制造就完成了。

二，晶圆制造步骤

晶圆镀膜：

通过物理或其他方式（如高温等）使晶圆上产生一层二氧化硅。二氧化硅为绝缘材料，但有杂质和特殊处理的二氧化硅有一定的导电性。二氧化硅在这里的作用是为了传导光。像是用二氧化硅做光导纤维是同一个道理。完成这步后就为后面光刻做好了准备。

光刻胶涂抹：

顾名思义，就是在晶圆表面覆盖上一层光刻胶，而对其技术要求是要做到平整和薄。 机械手的运动速度一般是根据产品的生产节拍要求来决定的，但不宜盲目追求高速度。深圳本地晶圆运送机械吸臂设计

对于工业应用来说，有时并不需要机械手臂具有完整的六个自由度.深圳本地晶圆运送机械吸臂设计

机械臂的工作原理：

一般机构可由电力、液压、气动、人力驱动。机构有螺纹顶紧机构（如台虎钳）、斜锲压紧、

导杆滑块机构（破碎机常用）、利用重力的自锁机构（如抓砖头的）等等。还有简单的：如可用气（液压）缸直接夹紧的。如果是小物品，可直接购买FESTO等公司的气动手指。

底座是用来安装和固定机器的。

油箱是装润滑油或液压油循环的。

升降位置检测器，要么是确定物体或机器部件是否位于某几个预定高度位置，要么是实时检测其高度的。

手臂回转升降机构就是机械臂在升降的同时也可以旋转的。

手臂伸缩机构是机械臂伸出和缩回的伸缩位置检测器作用基本等同于升降位置检测器，只是测量对象换了。

机械手是能模仿人手和臂的某些动作功能，用以按固定程序抓取、搬运物件或操作工具的自动操作装置。 深圳本地晶圆运送机械吸臂设计

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