一、本产品广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验.二、主要技术指标:1、工作室温度范围:常温~+300℃用户使用温度260℃2、温度波动度:1.0℃(空载);3、温度偏差:常压温度试验:常温~200℃时2℃200~300℃时5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时2.0℃,100℃~200℃时5.0℃200℃~300℃时7.0℃4、升降温速率:升温时间:①常压时:90min(常温~+260℃)②低气压0.0001pa时:180min(常温~+260℃)降温时间:3℃~10℃/min(260℃~120℃),1℃~5℃/min(120℃~常温℃)降温方式:水冷降温5、试验箱承压方式:采用内承压方式6、压力范围:常压~0.0001Pa真萍科技为您提供定制各种尺寸工业烤箱。合肥工业烤箱多少钱
箱体结构:1烘箱总体由箱体部分,电气控制柜部分,电加热部分,风道部分,尘埃物过滤部分,N2进气排气及风冷部分等组装而成,结构合理,功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘,内胆材料:采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。3保温材料:采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充,有效的防止了热能浪费。4电热部分:采用进口覆套式电热器(SHEATHEDHEATER)无尘无氧化电热发生器。合肥工业烤箱门配件合肥哪家工业烤箱值得信赖呢?
HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。
优良连续炉的产品特点:1、双边配有链条传动,解决传送过程中跑偏的现象;2、烘箱分段式加热,单独电箱控制,方便操作,结构主要由输送机系统与烘干炉两大部分组成,多段单独;3、PID温度控制,炉内温度均匀;4、输送速度变频调速,调节自如,运行平稳,产能高;5、每段单独箱体设置废气排放接口,可外接到车间外面,避免车间废气污染。优良连续炉的术参数:1、送风方式:送风循环系统;2、温度范围:RT+30℃~300℃;3、温度精度:1℃4、温度均匀性:1℃5、温控装置:富士智能PID温控仪,LED数字显示,PID自动演算及定时;6、材质:内胆不锈钢,外箱体钢板静电喷塑;7、传送方式:链杆、链网、自动锟轮,相当强承重;8、复合式电加热器;9、保护装置:漏电保护、断路保护、电机过载保护、接地保护、非正常运行情况下蜂鸣报警。欢迎致电合肥真萍科技咨询工业烤箱相关知识。
真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏,解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线,解决液晶的受潮问题,解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。柜体规格、配备:1.左右双开门,3mm钢化玻璃,1mm厚不锈钢板,气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭,脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板,柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖,方便FFU保养及维修。5.回风循环设计,单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计,方便洁净清理与保养。合肥真萍科技建材为您提供专业的工业烤箱定制服务。工业烤箱厂家
使用工业烤箱到底有什么好处?合肥工业烤箱多少钱
1、本烘箱由室体、加热系统、电气控制系统、送风系统、保护系统等组成。2、箱体采用先进设备制作、业内的制造工艺流程、线条流畅、美观大方。3、工作室材质为不锈钢、外箱材质为优良冷轧钢板,产品外壳使用环保金属漆喷制,整体设计美观大方,适合较好实验室的颜色搭配。4、工作室内的搁架不可调节。5、工作室与外箱之间的保温材质是优良超细玻璃纤维保温棉,保温厚度:>70mm,隔温效果好,国内,高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层,内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特,极大减少了内腔热量的外传。6、门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构,密封、耐高温性、抗老化性好。合肥工业烤箱多少钱
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