多轴集成一体结构，使串扰减小。纳动纳米-本系列多数产品X、XY和XYZ采用集成并联结构设计，可以抑制两个或多个单轴堆叠组合时容易出现的非正交性。此外，每个轴的传感器被固定到相同的基准，并且不断地监测和校正移动台偏离每个正交轴的运动。复合轴类型的XY和XYZ轴位移台的压电陶瓷元件布置在两侧并具有对称的开口。换句话说，其中一个轴由两个左右压电陶瓷元件支撑和驱动的结构（并联结构），即使同时驱动两个和三个轴也可以获得稳定的操作。 压电纳米定位台配备有机械固定安装接口与负载安装接口。压电纳米定位台

十年来，我国自主研发的北斗芯片工艺从90nm到28nm，尺寸不断缩小，性能不断提升，并具备在全球范围展开竞争的实力和底气。在刚刚举办的第十届中国卫星导航年会宣布，我国正在研发北斗22纳米高精度、低功耗定位芯片。结合北斗三号全球系统的建成，该22纳米工艺北斗定位芯片，将使得我国北斗能够切入到无人机、自动驾驶、机器人、物联网等热门应用领域；并助力北斗在全球范围内提供更好的服务。

据悉，该芯片由国内创新卫星导航企业、北斗上市企业北斗星通旗下的芯片公司和芯星通研发。 压电陶瓷和纳米技术的学科应用纳米定位台是一个压电扫描柔性引导平台。

扫描电子显微镜的纳米电子束光刻（EBL）系统。它的主要组成部分包括改进型扫描电子显微镜、激光干涉仪控制平台、多功能高速图形发生器和功能齐全、操作简便的软件系统。

在电子和电气制造业中，光刻技术是制造无源/有源器件的重要步骤。随着纳米技术的飞速发展，纳米光刻技术作为一种重要的纳米结构和纳米器件制造技术，越来越受到人们的关注。尤其是电子束光刻技术（EBL），以其高分辨率和出色的灵活性在纳米光刻技术中发挥着不可替代的作用。电子束的束斑尺寸可聚焦到小于一个纳米，并可生成超高分辨率的图案。因此，EBL在纳米电子学、纳米光学和其他大多数纳米制造领域都有着巨大的应用潜力。

压电纳米扫描系统是由精密压电纳米定位台与压电控制器组成，系统可完成单轴或多轴的纳米精度的运动控制。下图中为芯明天的一款小体积型Z向压电纳米扫描系统。干涉测量是基于电磁波的干涉理论，通过检测相干电磁波的干涉图样、频率、振幅、相位等属性，将其应用于各种相关测量的技术的统称。用于实现干涉测量术的仪器被称作干涉仪。在当今科研领域、工业领域等，干涉测量术都发挥着重要作用，包括天文学、光纤光学、工程测量学等。在干涉测量中常用的工具是迈克尔逊干涉仪，一般可将相干光源的单条入射光束分成两条相同的光束。每条光束的传播路径（称为光程）不同，并在到达探测器之前重新会合。每条光束的传播距离不同使它们之间产生相位差。该相位差形成了可通过探测器捕获的干涉条纹。如果单条光束沿两个光路分开（测量光路和参考光路），则利用相位差便可判断出所有可改变光束相位的因素。 压电纳米定位台可集成于各类高精密装备，为其提供纳米级运动控制、光路控制等。

压电纳米定位台具有移动面，是通过带有柔性铰链的机械结构将压电陶瓷产生的位移及出力等进行输出，分直驱与放大两种结构。以压电陶瓷作为驱动源，结合柔性铰链机构实现X轴、Z轴、XY轴、XZ轴、XYZ轴精密运动的压电平台，驱动形式包含压电陶瓷直驱机构式、放大机构式。具有体积小、无摩擦、响应速度快等特点，配置高精度传感器，可实现纳米级分辨率及定位精度且具有较高的可靠性，在精密定位领域中发挥着主要作用。近年来，由于光通信技术飞速发展，光纤连接器作为光通信比较基本的光源器件，所以对其质量及可靠性有了更严格的要求。为了提高光纤连接及光信号传输的效率，因此光纤端面的检测至关重要。为得到光纤端面的三维参数，通常根据光学干涉来进行测量。其中由压电陶瓷控制器控制的压电纳米定位台用于移动3D干涉仪系统中的干涉物镜或光纤连接器以产生位相移动，分5步位相移动，每移动一步后由CCD摄像头读取干涉条纹。 纳米定位平台直驱的好处？显微镜载物台哪家好

“纳米定位”则是它的功能，它的移动端面可以产生纳米级精度的步进运动。压电纳米定位台

一般来说，机械设计可以在很大程度上满足刚度和强度的需求，前提是不限制尺寸空间。因此对于精密仪器的设计，杨氏模量和屈服强度的值不如热性能重要。然而，为了减少环境的影响，许多精密设备被刻意设计得很小。然后必须仔细考虑材料的力学性能。例如，材料的强度可能会限制柔性机构最大行程；低杨氏模量材料可能无法为纳米精度机械装置或其框架提供足够的刚度；硬度可能会影响机构与其致动器之间的接触刚度，这对机械系统的共振频率有直接影响。此外，材料的质量会对纳米精度机构的动态特性产生很大影响。 压电纳米定位台

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