3）从分流支路电路分析中要明白一点：从级录音放大器输出的信号，如果从VD1支路分流得多，那么流入第二级录音放大器的录音信号就小，反之则大。4）VD1存在导通与截止两种情况，在VD1截止时对录音信号无分流作用，在导通时则对录音信号进行分流。5）在VD1正极上接有电阻R1，它给VD1一个控制电压，显然这个电压控制着VD1导通或截止。所以，R1送来的电压是分析VD1导通、截止的关键所在。分析这个电路大的困难是在VD1导通后，利用了二极管导通后其正向电阻与导通电流之间的关系特性进行电路分析，即二极管的正向电流愈大，其正向电阻愈小，流过VD1的电流愈大，其正极与负极之间的电阻愈小，反之则大。3．控制电路的一般分析方法说明对于控制电路的分析通常要分成多种情况，例如将控制信号分成大、中、小等几种情况。就这一电路而言，控制电压Ui对二极管VD1的控制要分成下列几种情况。1）电路中没有录音信号时，直流控制电压Ui为0，二极管VD1截止，VD1对电路工作无影响，级录音放大器输出的信号可以全部加到第二级录音放大器中。2）当电路中的录音信号较小时，直流控制电压Ui较小，没有大于二极管VD1的导通电压，所以不足以使二极管VD1导通。

    所述第二垂直晶体管包括：电耦合到所述阳极的第二源极区域、垂直延伸到所述衬底中并且电耦合到所述阳极的第二栅极、电耦合到所述阴极的第二漏极区域、位于所述第二源极区域和所述第二漏极区域之间的第二沟道区域、以及在所述衬底中延伸并且位于所述第二栅极和所述第二沟道区域之间的第二栅极电介质。在一些实施例中，所述二极管包括：传导层，覆盖所述衬底以及所述一垂直晶体管和所述第二垂直晶体管；以及接触区域，形成在所述衬底中并且将所述一沟道区域和所述第二沟道区域电连接到所述传导层。因此，一个实施例提供了一种结构，该结构在衬底的沟槽中包括：一传导区域，其与衬底分离一距离，一距离短于约10nm；以及第二传导区域，其比一区域更深地延伸。根据一个实施例，第二区域与衬底分离第二距离，第二距离大于一距离。根据一个实施例，一区域通过一电介质层与衬底分离，并且第二区域通过第二电介质层与衬底分离。根据一个实施例，该衬底是半导体。根据一个实施例，该结构包括覆盖衬底和沟槽的传导层部分，所述部分电连接到衬底以及一区域和第二区域。根据一个实施例，所述部分与衬底接触或者与衬底分离小于300nm。

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