南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备先进的CVD用固态微波功率源技术。CVD技术是一种关键的制备技术，它通过气相反应直接在衬底上生长薄膜，是许多重要材料的制备技术之一。而固态微波功率源则是CVD设备重要组成部分。研究院的固态微波功率源，其技术先进，性能优良，可以广泛应用于化学/物理/电子束气相沉积和磁控溅射等各领域。该技术的应用前景十分广阔。在催化反应、材料制备等领域，CVD已是一种通行的制备技术。该技术的优势不仅在于制备的薄膜质量高，而且操作简单，可实现大规模制备，制备出的薄膜可广泛应用于热电转换器、光学设备、导电薄膜和光伏电池等领域。研究院在CVD用固态微波功率源技术上的研究和应用，将极大地推动该技术的发展并扩大其应用范围。研究院的技术实力，丰富的经验以及创新精神，将为该行业的进一步发展奠定坚实的基础。 南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供光电芯片技术开发及工艺流片服务。金刚石工艺技术服务

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供InGaAs太赫兹零偏SBD技术开发服务，该芯片具有低势垒高度与高截止频率的特点，支持零偏压毫米波、太赫兹混频、检波电路，可大大减小电路噪声，提高电路动态范围，且可以简化系统架构。在太赫兹安检和探测等场景中，零偏太赫兹检波模块是非常重要的器件。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司致力于为客户提供先进的技术解决方案，其服务范围较广，涵盖了整个技术开发周期，包括需求分析、方案设计、器件制造等多个方面。硅基氮化镓器件芯片工艺芯谷高频研究院的热物性测试仪产品准确性高，可满足热导率分析、热阻分析等需求，解决了材料的热评估难题。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质集成技术开发服务，公司拥有完善的表面处理、键合、转印、粘片、减薄、CMP、腐蚀等工艺技术，具有丰富的材料、器件、电路异质异构集成经验，在集成技术服务方面，可为客户提供定制化集成方案设计和集成工艺开发，在集成芯片制造方面，为客户提供定制化集成器件和芯片制造，异质异构集成技术通过不同材料、器件、工艺和功能的有机融合，是后摩尔时代微电子持续发展的重要途径之一。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台的微组装服务可以满足客户的不同需求。无论是小尺寸的电子元件还是微型机械器件，平台都能够提供精确、高效的组装解决方案。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台作为一家专业的技术服务机构，致力于为客户提供优良的微组装服务。通过其专业团队和先进设备的支持，平台能够满足不同领域和行业的需求，为客户提供精确、高效的解决方案。平台将竭诚为客户提供服务，助力其在市场中取得更大的竞争优势。芯谷高频研究院可以对外提供光电芯片测试服务，包括光电集成芯片在片耦合测试、集成微波光子芯片测试等。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院推出高功率密度热源产品，该产品由热源管芯和热源集成外壳组成，采用先进的厚金技术。热源管芯背面可与任意热沉进行金锡等焊料集成，满足与外壳集成后在任意热沉进行机械集成。灵活设计使热源可按客户需求定制，尺寸可调。产品适用于微系统或微电子领域热管、微流及新型材料散热技术开发，也可对热管理技术进行定量表征和评估。公司可根据客户需求设计和开发各种热源微结构及其功率密度。该产品不仅具备高功率密度，还具备良好的可定制性和适应性。芯谷高频研究院的聚焦离子束电镜系统可以进行表面形貌、剖面层结构分析以及元素成分分析，分辨率达到10nm。硅基氮化镓电路工艺定制开发

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院的CVD用固态微波功率源产品具有集成度高，尺寸小、寿命高等特性。金刚石工艺技术服务

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务，可进行以下先进集成材料制备和研发：1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆，用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器；2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆，用于低损耗光学平台；3)AlGaAs-on-insulator，绝缘体上AlGaAs晶圆，用于光量子器件等新一代片上光源平台；4)Miro-Cavity-SOI，内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆，用于环栅GAA，MEMS等器件平台；5)SionSiC/Diamond，解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈；6)GaNonSiC，解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈；7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。金刚石工艺技术服务

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