选择正确的研磨运动轨迹，关于研磨运动轨迹的种类与特点，在前面已讲过，实践表明，不同的研磨轨迹对被研表面光洁度的影响亦不同，其中，直线往复式研出的表面光洁度比较低，这是出为运动的方向性强，单纯的直线往复运动其研磨纹路足平行的，如使切痕重复加深，则不利于表面光洁度的改善。而其它如摆线式、正弦曲线式及不规则圆环线式研磨轨迹的共同特点是，运动的方向在不断地变化，研磨纹路是纵横交错的，在一定的研磨条件下，可研出较理想的表面光洁度来。实践表明，在所用压力范围内工件表面光洁度随着研磨压力的增加而降低。从某种意义上说，研磨的切削能力和工件表面光洁度是由研磨压力来决定的。对于研磨压力的增加，在同样研磨条件下磨粒承受的载荷也增加。如果研磨压力过大，使磨粒切入深度加深，切削作用加快，磨料的粉碎也加快，这时工件所获得的表面光洁度就较差。为此，要获得较高的表面光洁度，则需合理地选择研磨压力。在选择研磨压力时，首先应按工件的精度要求，来选择合理的研磨速度，被研材料的硬度及润滑剂的选用等。在平面研主要原因机加工工件时，除了上述影响因素以外，研具的质量。 深圳铭丰庆是一家专业生产加工平面磨五金件的公司，有想法的不要错过哦！四川平磨平面磨

    选择平面抛光机，需要注意以下几点：首先、根据您的材质、材质尺寸和加工要求选择基本的平面抛光机的款型，大部分情况需要配备顶配和工位，多个工位有利于一次性加工多个工件。第二、根据实际产能选择平面抛光机的型号。需要批量生产时，为了满足一次性加工数量尽可能，一般适合选用型号较大的型号。一般抛光盘直接有360、610、910等几种型号。第三、根据自动化要求程度，确定是否配备PLC程控系统、光栅系统等各种先进的自动化控制系统。第四、根据平面抛光机的工作频率决定是否使用修面机、平面测试仪器，供液系统等，在这些辅助设备的帮助下，可以使平面抛光机更好地完成高精密抛光程序。第五、平面抛光机配备抛光盘、抛光液等耗材。 四川平磨平面磨施加于研具上的力，通过磨粒而作用到被研磨表面上。

    高精密平面研磨机可以实现镜面效果,光洁度可以比较高达到，加工范围很广，可以对蓝宝石衬底，水晶，硅片，光电材料，光学玻璃，手机玻璃，手机触摸屏，陶瓷片，石英片，石墨密封环，硅晶圆等非金属材质进行双面研磨，还能对铜材，铁，铝材，不锈钢，模具钢，塑料，铝合金，锌合金，钛合金，镍合金，锡合金，硬质合金，碳钢，钨钢等各种金属材质进行双面研磨加工。高精密平面研磨机采用独特的安全锁紧机构,防止意外断气、断电而“掉盘”伤人的意外发生,主要用于各类型的铝材面抛光，有平面、斜面、圆面、圆弧面以及凹槽面及其他。根据所加工的要求可以选用适合要求的抛光轮来满足工件所需要的高速有效的去除掉挤压痕、自然氧化膜，同时具备抛光的功能,该系列抛光机已被广的用于各类如LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、硅片、不锈钢等等各类材料的单面的研磨。海德平面研磨抛光机HD-610属高精密平面研磨机，研磨机的精密度为平面度可达，粗糙度可达。广用于蓝宝石钟表玻璃、手机玻璃、光学玻璃晶片、LED蓝宝石衬底、陶瓷板、活塞环、阀片、铝铁硼、铁氧体、铌酸锂、钽酸锂、PTC热敏电阻、光盘基片、陶瓷密封环、硬质合金密封环、钨钢片、等各种材料的单双面研磨抛光。

    平面抛光机平台的生产过程中会出现一些产品缺陷，只要采用正确的方法可以进行工艺弥补，铸铁研磨平台工作面的缺陷是不可以忽视的重要部位，铸铁研磨平台使用寿命和缺陷修复有密切的关系。所以对铸铁研磨平台的缺陷做修复时要严格按平面抛光机所规定的工艺要求处理。另外，不锈钢工件表面经过平面抛光机例如焊接、冲压、卷曲、热处理等工艺处理之后生成一层乌黑的氧化变质硬化层，同时平面抛光机可以处理许多肉眼看见和看不见的微小毛刺，以及锐角毛边等。一般情况下用机械的方法很难将它们除去，影响其工件材质本身特性的发挥。为了解决这些问题，使用平面抛光机的各种方法对不锈钢等金属表面进行研磨抛光处理。对于不同的金属材质，不同的使用场合，对金属工件表面不同的需求，必须采用不同的研磨方法或者几种平面抛光机组合进行研磨加工处理才能使加工工件满足使用上的要求。 湿式研磨对液态研磨剂组成要求较高。

    磨料对平面抛光效果的影响平面抛光过程中磨料的作用是借助于机械力，将晶片表而经化学反应后形成的钝化膜去除，从而达到表而平整化的目的。日前常用的磨料有胶体SiO2、Al2O3及CeO2等。磨料的种类决定了磨粒的硬度、尺寸，从而影响抛光效果。抛光铝实验中，相对于SiO2、Al2O3磨料能获得较好的表而平整度，表而刮痕数量少、尺寸小，其原因是胶体SiO2磨粒尺寸小，抛光时磨料嵌入晶片表面的深度较小，并且在推荐其它参数的情况下，也能获得很高的抛光效率。磨料的浓度会影响抛光效果。抛光铝实验中，随着磨料(胶体SiO2)浓度的提高，单位而积参与磨削的磨粒数日增加，所以抛光效率提高，表而刮痕尺寸缓慢增人或基本保持不变;但磨料浓度过人时，抛光液的粘性增人，流动性降低，影响加工表而氧化层的有效形成，导致抛光效率降低。磨粒的尺寸也会对抛光效果产生影响，磨粒尺寸越小，表而损伤层厚度小。据统计，在硅片的精抛过程中，每次磨削层的厚度为磨粒尺寸的四分之一。为了有效地减小表而粗糙度和损伤层厚度，通常采用小尺寸的胶体硅(15~20nm)来代替粗抛时的胶体硅(50~70rnm);同时通过加强化学反应及提高产物的排除速度来提高抛光效率。 粗糙度要求较高。常规切削方式粗糙度保持在Ra0.8左右，无法达到Ra0.1要求。上海精磨平面加工

粗研时在规定工艺参数内，选用较粗的研磨剂、较高速度和研磨压力下进行研磨。四川平磨平面磨

    平面研磨机对硬质合金材质研磨抛光工艺对硬质合金材质工件的研磨加工大致和淬硬钢件的研磨加工方法相同，也分为研磨前的预加工、粗研磨、半精研磨以及精研磨等几个步骤。但是，由于硬质的合金材料的特点是比较的硬，所以在精密研磨抛光机选择磨料的时候，会有所不同，这其中，研磨前的预加工是采用绿色的碳化硅砂轮或是碳化硼来进行加工;而粗研磨的时候则采用碳化硼所制成的研磨粉来进行;半精研磨及精研磨采用金刚石研磨粉来进行。平面研磨机对硬质合金的工件进行研磨加工前所进行的预加工，其加工的方法很多。比如，进行磨削、电解磨削、磨料粗荒的研磨、及超声波加工都是可以达到预加工的效果等，而比较经常被采用的是磨削和用碳化硼磨料作粗荒的研磨加工。其生产效率比较低，所以对大批量的生产则常采用碳化硼的研磨粉来进行粗荒研磨的方法。以硬质合金材质为例，硬质合金材料研磨抛光步骤：1、在选用较硬的铸铁研磨盘材质研具的时候，敷涂煤油同180度碳化硼调合成的研磨剂，加以适当压力进行研磨加工。一般这道工序为下道粗研工序留有。2、粗研磨的加工方法与预加工比较相似，比较大的不同主要是，它所采用3碳化硼的型号不同。

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