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上海2PP增材制造 纳糯三维科技供应

信息介绍 / Information introduction

人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计,甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术,通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,上海2PP增材制造,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求,上海2PP增材制造。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,上海2PP增材制造,也可以用作工业生产上的加工模具。激光增材制造可以实现材料的精细控制和定制化生产。上海2PP增材制造

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   QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用上海微流道增材制造无掩膜光刻影响增材制造技术的因素你了解吗?

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   Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品,在科学研究中得到了较广的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。

  增材制造(AM)是近年来特别热门和相当有**性的制造工艺之一。这种新型制造工艺只要把设计输入机器里,然后把功能部件从机器的另一边取出来即可,这种想法以前出现在上一代人的科幻小说里,虽然现在我们仍离《星际迷航》电影里那样复制人类的技术还很遥远,但我们正在缩小这个差距。塑料、橡胶、陶瓷、油墨、贵金属和一些特殊合金材料,每天都在不同的行业中被制造及应用,其应用领域非常广,包括普通玩具、模具,甚至到人体部位等。现在这一切都可以利用3D打印(增材制造)技术打印出来。Nanoscribe公司作为精密之傲高精度3D打印系统制造商,于2018年在中国成立了分公司,加强了德国高科技公司在中国销售活动,完善了整个亚太地区的客户服务范围。纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨增材制造技术发展趋势和应用。

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Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。更多增材制造的信息,请咨询Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司。上海微流道增材制造无掩膜光刻

激光增材制造在航空航天、医疗和汽车等领域有广泛应用。上海2PP增材制造

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高.上海2PP增材制造

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