冷却后，得到碳化硅陶瓷。实施例2本实施例的碳化硅陶瓷的制备过程具体如下：(1)以氧化钇与碳化硅微粉的质量比为3∶100，得到氯化钇与碳化硅微粉的质量比为∶100，然后将氯化钇溶解在水和酒精的混合溶液中，溶解完全后加入***分散剂聚乙烯醇缩丁醛，然后加入粒径为5μm碳化硅微粉，搅拌均匀，得到***浆料。在冰浴条件下加入与***浆料的质量比为∶1的环氧丙烷，搅拌均匀得第二浆料。将第二浆料在闭式喷雾塔中喷雾，安徽HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件，得到表面覆盖有氧化钇的碳化硅颗粒。然后将碳化硅颗粒在真空条件、800℃下进行热处理，安徽HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件，得到预处理颗粒。(2)将第二分散剂聚乙烯吡咯烷酮溶解在水中形成溶液，将***碳源炭黑和预处理颗粒在该溶液中均匀分散，再将粘接剂羧甲基纤维素钠加入其中，进行球磨，安徽HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件，球磨过程中的转速为200转/分，球磨时间为3h，得到第三浆料，将第三浆料在喷雾造粒塔中喷雾，得到平均尺寸为120微米的造粒粉。(3)将造粒粉均匀填满模具，进行模压成型，成型压强为120mpa，保压时间为50s，脱模，然后置入真空包装袋中，抽真空，再置于等静压机中等静压成型，成型压力为300mpa，保压时间为120s，得到***预制坯。(4)将***预制坯放置于真空排胶炉中，以每分钟℃的速度升温至900℃，保温3h。合适的材料选择、工程支持和测试能力。安徽HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件

    所述***分散剂和所述第二分散剂相互独立地选自四甲基氢氧化铵、聚乙烯吡咯烷酮、丙烯酸铵、丙烯酸钠、聚乙烯醇及聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种；及/或，所述粘结剂包括酚醛树脂、环氧树脂、聚乙烯醇、羧甲基纤维素钠、丙烯酸及聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种；及/或，所述碳化硅微粉的粒径为μm～μm；及/或，所述稀土元素包括钇、钕、铈、镧及钐中的至少一种。一种碳化硅陶瓷，由上述碳化硅陶瓷的制备方法制备得到。一种半导体零件，由上述碳化硅陶瓷加工处理得到。上述碳化硅陶瓷的制备方法先采用金属的氯化物、环氧丙烷、***分散剂和***溶剂与碳化硅微粉混合，金属元素的氯化物在环氧丙烷的作用下沉淀，然后在真空条件、700℃～900℃下进行加热处理，使金属元素的氯化物转化为氧化物，并均匀沉降在碳化硅微粉表面，具有促进烧结、降低气孔率的作用，从而提高碳化硅陶瓷的力学性能，相较于传统的制备方法中将金属元素的氧化物直接与碳化硅微粉及分散剂、粘结剂等混合，能够使稀土元素的分布更均匀。另外，将***预制坯与第二碳源混合加热，液态的第二碳源在3mpa～7mpa的压力条件下浸渗入***预制坯的孔隙中，降低了孔隙率，从而提高了碳化硅陶瓷的力学性能。因此。浙江PP半导体与电子工程塑料零件定制加工特色生产集成电路芯片需要高度专业化的设备，可在多重苛刻环境下工作。

    以糠醛与聚碳硅烷的混合物为***碳源和预处理颗粒在该溶液中均匀分散，再以聚乙烯醇、丙烯酸及聚乙烯醇缩丁醛的混合物为粘接剂加入其中，进行球磨，球磨过程中的转速为300转/分，球磨时间为1h，得到第三浆料，将第三浆料在喷雾造粒塔中喷雾，得到平均尺寸为80微米的造粒粉。(3)将造粒粉均匀填满模具，进行模压成型，成型压强为170mpa，保压时间为10s，脱模得，然后置入真空包装袋中，抽真空，再置于等静压机中等静压成型，成型压力为400mpa，保压时间为180s，得到***预制坯。(4)将***预制坯放置于真空排胶炉中，以每分钟1℃的速度升温至900℃，保温4h，得到排胶后的***预制坯。(5)将排胶后的***预制坯升温至340℃，以沥青和环氧树脂为第二碳源加入其中，加热3h，然后抽真空1h，再以氮气加压至7mpa，进行压力浸渗，让第二碳源渗入***预制坯的孔隙中，降温得到第二预制坯。(6)将第二预制坯放置于真空排胶炉中，以每分钟1℃的速度升温至900℃，保温4h，排胶后，机加工得到排胶后的第二预制坯。(7)将排胶后的第二预制坯和硅粉按质量比为1∶4在石墨坩埚中混合，然后放置于真空高温烧结炉中进行反应烧结，烧结温度为1800℃，保温时间为1h，冷却后，得到碳化硅陶瓷。

    表1实施例和对比例的碳化硅陶瓷的力学性能数据从上表1中可以看出，实施例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度均在400mpa左右，实施例2得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度甚至高达451mpa，远高于对比例得到的碳化硅陶瓷的抗弯强度。实施例得到的碳化硅陶瓷的显微硬度至少为2441hv，致密度均在3g/cm3以上，而对比例得到的碳化硅陶瓷的抗显微硬度和致密度均较低。由此可以看出，采用实施例中的碳化硅陶瓷的制备方法得到的碳化硅陶瓷的力学性能较好。以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。以上所述实施例*表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。CNC数控机床可以处理多种半导体材料及其工程组合。

    以避免轴承座10与工艺腔碰撞导致传送组件精度下降。为进一步提高传动筒4的稳定性，避免外界物质进入轴承座10，推荐地，如图3、图4所示，工艺盘组件还包括密封衬套5，密封衬套5环绕设置在传动筒4的外壁上。需要说明的是，密封衬套5与轴承座之间为固定连接关系，如图4所示，推荐地，密封衬套5的内壁上还设置有用于容纳密封圈的密封圈槽，在传动筒4转动时，与轴承座固定连接的密封衬套5持续地与传动筒4摩擦。为提高密封衬套5的耐磨性能，推荐地，密封衬套5为不锈钢材料。在实验研究中，发明人还发现，现有的半导体设备工艺效果不佳的原因在于，个别轴套类部件上的密封件在传动机构的运动过程中会逐渐沿轴向移动，偏离预定位置，造成半导体设备的气密性下降。为解决上述技术问题，推荐地，如图3、图4、图13所示，工艺盘组件还包括挡环7，传动筒4的外壁上形成有挡环槽43，挡环7环绕传动筒4设置在挡环槽43中，挡环7的外径大于密封衬套5朝向工艺盘01一端的内径，以使得密封衬套5无法沿轴向运动通过挡环槽43所在的位置。在本实用新型的实施例中，传动筒4的外壁上形成有挡环槽43，并在挡环槽43中设置挡环7，从而可以阻止密封衬套5轴向偏离，进而避免了避免外界物质进入轴承座10。我们的零件被设计用于整个晶圆加工制程。河北CPVC半导体与电子工程塑料零件定制加工多厚

提高生产率及产品寿命。安徽HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件

    附图标记说明01：工艺盘1：工艺盘转轴2：驱动衬套210：***衬套部211：驱动通孔211a：避让槽220：第二衬套部221：轴通孔222：定位凸起3：驱动轴310：驱动连接部320：驱动轴体部311：定位平面312：圆柱面4：传动筒41：内凸台结构42：外凸台结构43：挡环槽5：密封衬套6：波浪管7：挡环8：调平件9：传动架91：传动法兰92：法兰连接件10：轴承座101：上法兰102：下法兰11：升降机构12：电机13：定位块具体实施方式以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式*用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。本实用新型的发明人在实验中发现，工件在工艺盘上出现摆放位置偏移的问题是工艺盘与相应的旋转传动组件之间出现滑移导致的。发明人在进行过大量实验研究后发现，在现有的半导体设备中，为了实现向工艺盘传递扭矩，通常采用圆柱面摩擦传动的方式带动，而正是该摩擦传动方式使得传动件的摩擦面长时间发生相对转动，导致配合面发生摩擦磨损，进而影响了对位精度。因此，为解决上述技术问题，作为本实用新型的***个方面，提供一种半导体设备中的工艺盘组件，如图1至3所示，工艺盘组件包括工艺盘01和工艺盘转轴1。安徽HIPS半导体与电子工程塑料零件定制加工加工件

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