碳化硅陶瓷可用于研磨盘  ---研磨盘主要应用于高速研磨和抛光的工程中，像半导体行业和光伏产业，主要应用于大规模集成电路硅基片和光伏产业中硅片的抛光。以前生产中使用量比较多的是铸铁或钢研磨盘。随着碳化硅陶瓷耐磨材料的发展和和烧结工艺的开发，深圳抗氧化碳化硅陶瓷，铸铁和钢研磨盘逐渐被碳化硅研磨盘所代替。这是由于碳化硅研磨盘和铸铁或钢研磨盘相比，热膨胀系数小，深圳抗氧化碳化硅陶瓷，深圳抗氧化碳化硅陶瓷、强度大、硬度高、使用寿命长、成本低。特别是在高速的研磨和抛光过程中，碳化硅的热膨胀系数跟硅很接近，不容易导致碳化硅磨损和热变形，可以保证硅片的加工精度。特别近年来，光伏行业中硅片的尺寸越来越大，对研磨盘的质量和研磨效率要求越来越高。利用碳化硅研磨盘可以完全解决研磨和抛光的高要求，提高研磨质量和效率。精密加工碳化硅陶瓷异形件。深圳抗氧化碳化硅陶瓷

     碳比硅陶瓷的机械性跟现在使用的金属材料相比，其碳化硅陶瓷的机械强度高、刚任好-----机械强度高可以有效防止材料变形，这点至关重要。碳化硅陶瓷的机械强度高于刚玉。例如，碳化硅陶瓷的抗压强度224MPa，刚玉为75.7MPa;碳化硅陶瓷的抗弯强度为15.5MPa，而刚玉则为8.72MPa。

     碳比硅陶瓷的硬度跟现在使用的金属材料相比，其碳化硅陶瓷的硬度大、耐磨---按莫氏刻痕硬度为9.2~9.6，次于金刚石和碳化硼，高于刚玉而名列普通磨抖的前茅。与金属钢制材料相比，它不仅硬度高，而且在无润滑状态下摩擦系数小，摩擦力相对较小，表面粗糙度小，具有良好的耐磨性。此外， 碳比硅陶瓷对外界物质的冲击抵抗能力强，提高了表面的承受能力。 深圳半导体工业碳化硅陶瓷精加工定制各种碳化硅陶瓷零件。

     碳化硅陶瓷重要的导电特性使得其是制造lOOO。C以上加热炉发热元件的主要材料这一，碳化硅发热元件是碳化硅陶瓷材料的主要产品，具有极大的市场。我国有关产品的使用温度长期停留在1400'C以下，而发达国家进人九十年代以来，其碳化硅陶瓷发热元件的使用温度已普遍提高到1600"(2，例如德国的Cesi-wid公司，日本的东海高热株式会社，同时与国外产品相比，我国产品冷端／热区电阻比一般*为1：10，低于国外水平(1：15)，造成电力资源的浪费。

  以碳化硅SiC为主要成分的陶瓷。SiC陶瓷不仅具有优良的常温力学性能，如高的抗弯强度、优良的抗氧化性、良好的耐腐蚀性、高的抗磨损以及低的摩擦系数，而且高温力学性能(强度、抗蠕变性等)是已知陶瓷材料中比较好的。热压烧结、无压烧结、热等静压烧结的材料，其高温强度可一直维持到1600℃，是陶瓷材料中高温强度比较好的材料。抗氧化性也是所有非氧化物陶瓷中比较好的。别名金刚砂。

    SiC陶瓷的缺点是断裂韧性较低，即脆性较大，为此近几年以SiC陶瓷为基的复相陶瓷，如纤维(或晶须)补强、异相颗粒弥散强化、以及梯度功能材料相继出现，改善了单体材料的韧性和强度。

    SiC陶瓷在石油、化工、微电子、汽车、航天、航空、造纸、激光、矿业及原子能等工业领域获得了很好的应用。 定制加工超薄高硬度碳化硅陶瓷片。

     碳化硅陶瓷是一种重要的工程陶瓷，具有强度高、高硬度、高导热、耐腐蚀、耐磨损等优异性能,应用于机械密封、防弹装甲、过滤器、热交换器、半导体等方面。随着集成电路、热交换器等行业的迅猛发展，以及近年来对半导体制造设备元器件高热导率、优异抗热震性和耐腐蚀性综合性能要求的提高，高导热碳化硅陶瓷的需求量急剧增长,现在人们对碳化硅陶瓷热导率的关注越来越多。碳化硅是一种共价键化合物，在室温下其热传导主要通过晶格振动(声子)的传递和散射而进行。碳化硅单晶的理论室温热导率高达490 W·m-1·K-1。碳化硅陶瓷室温热导率在30～270 W·m-1·K-1,远低于碳化硅单晶理论室温热导率，这主要是由于碳化硅陶瓷中存在烧结助剂、晶界、固溶体、晶格氧、气孔等。鑫鼎陶瓷支持加工各种碳化硅异形结构件。深圳抗氧化碳化硅陶瓷

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     随着现代科技、核能与航天技术、汽车工业、海洋工程的快速发展，对材料的要求越来越高。高性能的结构陶瓷材料在生活中被很大的应用。碳化硅陶瓷材料具有高温强度高、耐磨性好、热膨胀系数小、硬度高、抗热冲击、耐化学腐蚀等诸多优良特性，因此广泛应用于汽车、机械、化工等行业。 、环保、空间技术、信息电子、能源等领域。碳化硅已成为不可替代的结构陶瓷，在许多工业领域具有优异的性能。例如，碳化硅陶瓷在石油化工行业已用作耐腐蚀容器和管道，在机械工业中也已成功应用于各种轴承、刀具和机械密封件等。除此之外，碳化硅还被认为是未来在航空航天和汽车行业生产燃气轮机、火箭喷嘴和发动机部件的有希望的候选者。深圳抗氧化碳化硅陶瓷

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