2CP1554硅二极管Ir≤≤,≤,2CP1555硅二极管Ir≤≤,≤,[1]整流二极管高频整流二极管的特性与参数编辑开关电源中的整流二极管必须具有正向压降低、快速恢复的特点，还应具有足够大的输出功率，可以采用以下三种类型的整流二极管：快速恢复整流二极管;超快速恢复整流二极管;肖特基整流二极管。快速恢复和超快恢复整流二极管具有适中的和较高的正向电压降，其范围是从～。这两种整流二极管还具有较高的截止电压参数。因此，它们特别适合于在小功率的、输出电压在12V左右的辅助电源电路中使用。由于现代的开关电源工作频率都在20kHz以上，比起一般的整流二极管，快速恢复整流二极管和超快速恢复整流二极管的反向恢复时间莎Ⅱ减小到了毫微秒级，因此，提高了电源的效率。据经验，在选择快速恢复整流二极管时，其反向恢复时间至少应该是开关晶体管的上升时间的1/3。这两种整流二极管还减少了开关电压尖峰，而这种尖峰直接影响输出直流电压的纹波。另外，虽然某些称为软恢复型整流二极管的噪声较小，但是它们的反向恢复时间较长，反向电流也较大，因而使得开关损耗增大，并不能满足开关电源的工作要求。

    为了实现这一点，作为示例，传导层40覆盖衬底20和沟槽22。层40例如由铝、铝-铜或铝-硅-铜制成。层40可以布置在传导界面层42上。区域302在沟槽中从层40或可能的界面层42延伸。层42例如旨在便于在层40和区域302、204、210以及可能的区域306之间形成电接触件(下面的图2a至图2f的方法)。层42可以由硅化物制成或者可以是例如由钛制成的金属层。层42可以备选地包括硅化物层和金属层，金属层覆盖硅化物层并且例如由钛制成。硅化物因此形成电接触件，而金属层提供对层40的粘附。层42可以至少部分地通过自对准硅化工艺来获得，并且硅化物然后是不连续的并且不覆盖层304的上部部分。层42的厚度推荐地小于300nm，例如小于100nm。由于区域302和沟道区域202通过上述短距离d分离的事实，可以选择沟道区域202的掺杂水平以及区域302的掺杂类型和水平来获得二极管的饱和电流密度，其在25℃时例如在1na/mm2和1ma/mm2之间。推荐地，区域202的掺杂水平在2×1016和1018原子/cm3之间。为了获得该饱和电流密度，区域302是重n型掺杂的(例如大于5×1018原子/cm3)，或者更一般地通过与沟道区域202的传导类型相反的传导类型来被重掺杂。电流密度饱和度在此由以下来确定：a)测量由大于。

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