壳材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或单层原子。图9a至9c示出了根据一些实施例的图案化在vcsel结构的顶层802上的元原子的不同示例。图9a示出了***元结构902，其中，壳材806围绕用于每个元原子的芯材804，但是不覆盖顶层802在每个元原子之间的区域。在蚀刻工艺期间，深圳菲涅尔透镜淘宝，使用例如光刻胶或硬掩模来保护壳材806的围绕芯材804的部分，以移除壳材806在顶层802的表面上的暴露部分。图9b示出了第二元结构904，深圳菲涅尔透镜淘宝，其中，壳材906共形地覆盖包括芯材804的所有表面和顶层802的表面，深圳菲涅尔透镜淘宝。图9c示出了第三元结构906，其中，壳材806*覆盖芯材804的一个或多个侧壁。在沉积壳材806后，可以执行包层各向异性干法蚀刻工艺，以移除壳材806的所有水平平面部分，*留下芯材804的侧壁上的那些部分。图10示出了根据实施例的包括不止一种类型的元原子的元结构1000(这里称为“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根据实施例，***元原子1002包括具有基部1006和顶部1008的芯材。基部1006可以比顶部1008更宽或更窄。第二元原子1004包括芯材1010，并且***元原子1002和第二元原子1004二者被壳材1012环绕。菲涅尔透镜膜诚信推荐口碑推荐。深圳菲涅尔透镜淘宝

用于***元原子1002和第二元原子1004二者的芯材和壳材可以包括如上针对芯材804和壳材806所述的材料，并且可以使用如上针对芯材804和壳材806所述的相同技术来制造。可以使用任意数目的具有任意形状或大小的元原子来一起形成元分子。可以横跨顶层802的表面重复具体的元分子结构，或者可以横跨顶层802的表面布置不同的元分子结构。元分子允许不同的光学相互作用基于各个元原子的不同几何形状而组合在一起。方法图11是示出根据本公开的实施例的用于降低来自激光源的斑点噪声的示例方法1100的流程图。可以看出，示例方法1100包括多个阶段和子处理，这些阶段和子处理的顺序可以随实施例改变。但是，当综合考虑时，这些阶段和子处理形成根据本文公开的某些实施例的用于降低来自激光源的斑点噪声的处理。如上所述，可以例如，使用图2所示的系统架构来实现这些实施例。但是，根据本公开将明白的是，在其他实施例中可以使用其他系统架构。因此，图11所示的各种功能与图2所示的具体组件的关联不意在暗示任何结构和/或使用限制。相反，其他实施例可以包括例如不同程度的集成，其中，多个功能由一个系统有效地执行。根据本公开将明白多种变化和替代配置。如图11所示，在一个实施例中。深圳曲面 菲涅尔透镜球面菲涅尔透镜常见问题有哪些？

这些对本实用新型权利要求进行改进和等同替换后的技术方案，均落入本实用新型的保护范围。本实用新型的多功能二维声学超材料透镜是通过电机控制c型单元结构，进而控制折射率变化的方法实现的。如图1所示，本实用新型提供的声学超材料透镜，包括基底材料层以及等间隔镶嵌在基底材料层上的若干c型单元超材料阵列，c型单元超材料阵列均由若干个c型单元结构周期性排列而成，其周期尺寸为a，c型单元结构为可旋转单元结构。为了实现在同一c型单元结构上获得不同的折射率，本实用新型设计了一种c型单元结构如图2所示，图2(a)为c型单元结构俯视图，其中外半径为r，圆环宽度为w，开口角度为θ，旋转角度为图2(b)为c型单元结构安装示意图，在基底材料层上开设有与c型单元结构匹配的圆环形凹槽，c型单元结构一端镶嵌在凹槽中，可在凹槽中做旋转运动，且可以由电机控制沿逆时针方向(本实施例中以逆时针方向旋转为例，其也可以顺时针旋转)精确地旋转角度c型单元结构的材料设置为光敏树脂，其密度为1388kg/m3，声速为716m/s。根据1999年pendry提出的等效媒质理论，当相邻两个c型单元结构间距远小于波长时，即小于十分之一波长时，就可以把c型单元结构当成等效均匀媒质。

并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。led菲涅尔透镜材料模板有哪些？

菲涅尔透镜从设计上划分为两类。正菲涅尔透镜：光线从一侧进入，经过菲涅尔透镜在另一侧出来聚焦成一点或以平行光射出。焦点在光线的另一侧，并且是有限共轭。这类透镜通常设计为准直镜（如投影用菲涅尔透镜，放大镜）以及聚光镜（如太阳能用聚光聚热用菲涅尔透镜。负菲涅尔透镜：和正焦菲涅尔透镜刚好相反，焦点和光线在同一侧，通常在其表面进行涂层，作为第1反射面使用。菲涅尔透镜从结构上划分圆形菲涅尔透镜，菲涅尔透镜阵列，柱状菲涅尔透镜，线性菲涅尔透镜，衍射菲涅尔透镜，菲涅尔反射透镜，菲涅尔光束分离器和菲涅尔棱镜。平面菲涅尔透镜材料模板有哪些？深圳线性菲涅尔透镜

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本申请大体涉及成像领域，具体地涉及高计算效率的结构化光成像系统。背景技术：创建3d图像的一种途径被称为结构化光照明(sli)技术。在sli技术中，光图案被投射到3d物体表面上。sli系统包括相机和投影仪(照明器)。3d物体被放置在与投影仪和相机相距预定距离的参考平面上。在使用中，投影仪将结构化光图案投射到3d物体表面上。结构化光图案可以是一系列条纹线或网格或任何其他图案。当结构化光图案被投射到3d物体表面上时，其被3d物体表面扭曲。相机捕捉在结构化光图案中具有的扭曲的3d物体表面的图像。然后，图像被存储在图像文件中，以供图像处理设备处理。在一些情况下，多个结构化光图案被投影仪(照明器)投射到3d物体表面上，并且具有结构化光图案的3d物体的多个图像被相机捕捉。在图像文件的处理期间，对结构化光图案中的扭曲进行分析，并且执行计算以确定3d物体表面上的各个点相对于参考表面的参考测量结果。这种图像处理使用标准测距或三角测量方法。相机和投影图案之间的三角测量角导致与表面的深度直接相关的扭曲。一旦这些测距技术被用来确定3d物体表面上的多个点的位置，则3d物体的3d数据表示即可被创建。3d物体的数字再造在包括图像识别(例如。深圳菲涅尔透镜淘宝

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