场效应管与双极性晶体管的比较场效应管是电压控制器件，栅极基本不取电流，而晶体管是电流控制器件，基极必须取一定的电流。因此，在信号源额定电流极小的情况，应选用场效应管。场效应管是多子导电，而晶体管的两种载流子均参与导电。由于少子的浓度对温度、辐射等外界条件很敏感，东莞加强型场效应管生产商，因此，对于环境变化较大的场合，采用场效应管比较合适。场效应管除了和晶体管一样可作为放大器件及可控开关外，还可作压控可变线性电阻使用。场效应管的源极和漏极在结构上是对称的，东莞加强型场效应管生产商，可以互换使用，耗尽型MOS管的栅——源电压可正可负，东莞加强型场效应管生产商。因此，使用场效应管比晶体管灵活。场效应管场效应管更好的热稳定性，抗辐射性和较低噪声 。东莞加强型场效应管生产商

场效应管介绍：场效应晶体管（缩写FET）简称场效应管。由多数载流子参与导电，也称为单极型晶体管。属于电压控制型半导体器件。具有输入电阻高（10^8~10^9Ω）、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、没有二次击穿现象、安全工作区域宽等优点。场效应管是电压控制器件，它通过VGS（栅源电压）来控制ID（漏极电流）；场效应管的输入端电流极小，因此它的输入电阻很大。它是利用多数载流子导电，因此它的温度稳定性较好；它组成的放大电路的电压放大系数要小于三极管组成放大电路的电压放大系数；由于不存在杂乱运动的少子扩散引起的散粒噪声，所以噪声相对会比较低。湖州P沟道场效应管作用结型场效应管可以被用来做恒流集成二极管或者定值电阻。

场效应管的应用常用的场效应晶体管是金属氧化物半导体场效应晶体管 。CMOS (互补金属氧化物半导体)工艺技术是现代数字化集成电路的基础。这种工艺技术采用一种增强模式设计，即p沟道MOSFET和n沟道MOSFET串联连接，使得当一个导通时，另一个闭合。在场效应晶体管中，当以线性模式工作时，电子可以沿任意方向流过沟道。漏极和源极的命名惯例有些随意，因为器件通常(但不总是)从源极到漏极对称构建。这使得场效应晶体管适合在路径之间切换模拟信号(多路复用)。利用这个概念可用于构建固态混合板。

VMOS场效应管:VMOS场效应管（VMOSFET）简称VMOS管或功率场效应管，其全称为V型槽MOS场效应管。它是继MOSFET之后新发展起来的高效、功率开关器件。它不光继承了MOS场效应管输入阻抗高（≥108W）、驱动电流小（左右0.1μA左右），还具有耐压高（较高可耐压1200V）、工作电流大（1.5A～100A）、输出功率高（1～250W）、跨导的线性好、开关速度快等优良特性。正是由于它将电子管与功率晶体管之优点集于一身，因此在电压放大器（电压放大倍数可达数千倍）、功率放大器、开关电源和逆变器中正获得普遍应用。场效应晶体管以电子或空穴中的一种作为载流子。

场效应管注意事项:为了安全使用场效应管，在线路的设计中不能超过管的耗散功率，较大漏源电压、较大栅源电压和较大电流等参数的极限值。各类型场效应管在使用时，都要严格按要求的偏置接入电路中，要遵守场效应管偏置的极性。如结型场效应管栅源漏之间是PN结，N沟道管栅极不能加正偏压；P沟道管栅极不能加负偏压，等等。MOS场效应管由于输入阻抗极高，所以在运输、贮藏中必须将引出脚短路，要用金属屏蔽包装，以防止外来感应电势将栅极击穿。尤其要注意，不能将MOS场效应管放入塑料盒子内，保存时比较好放在金属盒内，同时也要注意管的防潮。漏极(D)，载流子通过漏极离开沟道。通常，在漏极处进入通道的电流由ID表示。东莞加强型场效应管生产商

场效应晶体管的沟道是掺杂n型半导体或p型半导体的结果。东莞加强型场效应管生产商

场效应管的主要参数 :Idss — 饱和漏源电流.是指结型或耗尽型绝缘栅场效应管中,栅极电压UGS=0时的漏源电流.Up — 夹断电压.是指结型或耗尽型绝缘栅场效应管中,使漏源间刚截止时的栅极电压.　Ut — 开启电压.是指增强型绝缘栅场效管中,使漏源间刚导通时的栅极电压.gM — 跨导.是表示栅源电压UGS — 对漏极电流ID的控制能力,即漏极电流ID变化量与栅源电压UGS变化量的比值.gM 是衡量场效应管放大能力的重要参数.BVDS — 漏源击穿电压.是指栅源电压UGS一定时,场效应管正常工作所能承受的较大漏源电压.这是一项极限参数,加在场效应管上的工作电压必须小于BVDS.PDSM — 较大耗散功率,也是一项极限参数,是指场效应管性能不变坏时所允许的较大漏源耗散功率.使用时,场效应管实际功耗应小于PDSM并留有一定余量.IDSM — 较大漏源电流.是一项极限参数,是指场效应管正常工作时,漏源间所允许通过的较大电流.场效应管的工作电流不应超过IDSM东莞加强型场效应管生产商

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