场效应管与晶体管的比较：（1）场效应管是电压控制元件，而晶体管是电流控制元件。在只允许从信号源取较少电流的情况下，应选用场效应管；而在信号电压较低，东莞双极场效应管特点，又允许从信号源取较多电流的条件下，应选用晶体管，东莞双极场效应管特点。（2）场效应管是利用多数载流子导电，所以称之为单极型器件，东莞双极场效应管特点，而晶体管是即有多数载流子，也利用少数载流子导电。被称之为双极型器件。（3）有些场效应管的源极和漏极可以互换使用，栅压也可正可负，灵活性比晶体管好。（4）场效应管能在很小电流和很低电压的条件下工作，而且它的制造工艺可以很方便地把很多场效应管集成在一块硅片上，因此场效应管在大规模集成电路中得到了普遍的应用。盟科有TO-252封装形式的MOS管。东莞双极场效应管特点

场效应管在过渡层由于没有电子、空穴的自由移动，在理想状态下几乎具有绝缘特性，通常电流也难流动。但是此时漏极-源极间的电场，实际上是两个过渡层接触漏极与门极下部附近，由于漂移电场拉去的高速电子通过过渡层。因漂移电场的强度几乎不变产生ID的饱和现象。其次，VGS向负的方向变化，让VGS=VGS(off)，此时过渡层大致成为覆盖全区域的状态。而且VDS的电场大部分加到过渡层上，将电子拉向漂移方向的电场，只有靠近源极的很短部分，这更使电流不能流通。嘉兴大功率场效应管高压mos管选择深圳盟科电子。

场效应管判定栅极:用万用表黑表笔碰触管子的一个电极，红表笔分别碰触另外两个电极。若两次测出的阻值都很大，说明均是反向电阻，该管属于N沟道场效应管，黑表笔接的也是栅极。制造工艺决定了场效应管的源极和漏极是对称的，可以互换使用，并不影响电路的正常工作，所以不必加以区分。源极与漏极间的电阻约为几千欧。注意不能用此法判定绝缘栅型场效应管的栅极。因为这种管子的输入电阻极高，栅源间的极间电容又很小，测量时只要有少量的电荷，就可在极间电容上形成很高的电压，容易将管子损坏。

场效应管的类型：DEPFET 是在完全耗尽的衬底中形成的场效应晶体管，同时充当传感器、放大器和存储器节点。它可以用作图像(光子)传感器。FREDFET (快速反向或快速恢复外延二极管场效应晶体管)是一种用于提供非常快速的重启（关闭）体二极管的特殊的场效应晶体管，HIGFET (异质结构绝缘栅场效应晶体管)现在主要用于研究MODFET(调制掺杂场效应晶体管)是使用通过在有源区分级掺杂形成的量子阱结构的高电子迁移率晶体管。TFET ( 隧道场效应晶体管)是以带对带隧道基的晶体管IGBT(IGBT高频炉)是一种功率控制装置。它与类双极的主导电沟道的MOSFET的结构，并常用于200-3000伏的漏源电压工作范围。功率MOSFET 仍然是1至200 V漏源电压的器件。HEMT ( 高电子迁移率晶体管)，也称为HFET(异质结构场效应晶体管)，可以在诸如AlGaAs 的三元半导体中使用带隙工程来制造。完全耗尽的宽带隙材料形成栅极和主体之间的绝缘。场效应晶体管的一个优点是它的栅极到主电流电阻高（≥100 MΩ）。

场效应管注意事项:为了安全使用场效应管，在线路的设计中不能超过管的耗散功率，较大漏源电压、较大栅源电压和较大电流等参数的极限值。各类型场效应管在使用时，都要严格按要求的偏置接入电路中，要遵守场效应管偏置的极性。如结型场效应管栅源漏之间是PN结，N沟道管栅极不能加正偏压；P沟道管栅极不能加负偏压，等等。MOS场效应管由于输入阻抗极高，所以在运输、贮藏中必须将引出脚短路，要用金属屏蔽包装，以防止外来感应电势将栅极击穿。尤其要注意，不能将MOS场效应管放入塑料盒子内，保存时比较好放在金属盒内，同时也要注意管的防潮。场效应管（FET）是利用控制输入回路的电场效应来控制输出回路电流的一种半导体器件，并以此命名。嘉兴大功率场效应管

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场效应管工作原理用一句话说，就是“漏极-源极间流经沟道的ID， 用栅极与沟道间的pn结形成的反偏的栅极电压进行控制”。更正确地说，ID流经通路的宽度，即沟道截面积，它是由pn结反偏的变化，产生耗尽层扩展变化控制的缘故。在VGS=0的非饱和区域，表示的过渡层的扩展因为不很大，根据漏极-源极间所加VDS的电场，源极区域的某些电子被漏极拉去，即从漏极向源极有电流ID流动。从门极向漏极扩展的过度层将沟道的一部分构成堵塞型，ID饱和。将这种状态称为夹断。这意味着过渡层将沟道的一部分阻挡，并不是电流被切断。东莞双极场效应管特点

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