>> 当前位置:首页 - 产品 - 高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料

高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料

信息介绍 / Information introduction

  高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料 钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜,这种溅射膜***用作电子部件和电子产品,如目前广泛应用的TFT-LCD、等离子显示屏、无激光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜酞阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅极等。在电子行业中,钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜酞阳能电池的电极和配线材料以及半导体的阻挡层材料,这些都是基于钼的高熔点。高电导率,较低的比阻抗、较好的耐腐蚀性以及良好的环保性能。

  以前,平面显示器的配线材料主要是铬,但随着平面显示器的大型化和高精度化,越来越需要比阻抗小的材料,另外,环保也是必须考虑的问题,而钼具有比阻抗和膜应力*为铬的1/2的优势,而且不存在环境污染问题,因此成为了平面显示器溅射靶材的材料之一,此外,钼使用在LCD的元器件中,可使液晶显示器在亮度、对比度、色彩以及寿命方面的性能**提升。高纯度是对钼溅射靶材的一个基本特性要求,钼靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好,一般钼溅射靶材的纯度至少需要达到99.95,但随着LCE行业玻璃基板尺寸的不断提高,要求配线的长度延长、线宽变细,为了保证薄膜的均匀性以及布线的质量,对钼溅射靶材纯度的要求也相应提高,因此根据溅射的玻璃基板的尺寸以及使用环境,钼溅射靶材的纯度要求在99.99-99.999甚至更高,钼溅射靶材作为溅射中的阴极源,固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。

  北京环球金鼎科技有限公司供应高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料,为您提供详细的产品报价、参数、图片等商品信息,如需进一步了解高纯钼颗粒9999钼溅射靶半导体材料。

免责声明: 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息,均来源于其对应的用户,本网对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题,请及时与本网联系,我们将核实后进行删除,本网站对此声明具有最终解释权。

查看全部介绍
推荐产品  / Recommended Products