电解铜箔毛面毛刺产生是因为电解液中氯离子含量过高。统计结果表明，氯离子含量与毛刺有一定的相关性。氯离子含量越高，毛刺越明显。Cl−是生产电解铜箔的常用添加剂，微量的 Cl−能与其他添加剂协同作用，增强阴极极化，从而改善电解铜的表面光亮度，但电解液中 Cl−过多会减弱其他添加剂的作用，使整平作用减弱，发生去极化作用。另外，Cl−会与电解液中的 Cu+结合生成氯化亚铜沉淀并夹杂于镀层中而形成毛刺。氯化亚铜的生成还会降低阴极界面的铜离子浓度，引起阴极析氢，影响铜离子的迁移和沉积，使铜离子电沉积形成枝状晶，进而造成铜箔表面粗糙甚至形成毛刺。氯离子含量一般控制在 20 ~ 50 mg/L，含量过高不但会产生毛刺，而且会腐蚀阴极辊和溶铜罐，含量过低则直接影响铜箔的内在结构和力学性能，四川双导铜箔特点。电解铜箔的用途不同，技术要求也不同，四川双导铜箔特点，四川双导铜箔特点，通性是都要有一定的机械强度，厚薄均匀，不能有气孔。四川双导铜箔特点
电解铜箔毛面毛刺产生原因是什么？溶铜罐中铜酸含量失调。溶铜罐中的铜酸含量是重要的溶铜参数，直接从源头影响溶液的稳定性，溶铜罐中的铜含量的变化一般与酸含量的变化呈反比，即铜含量升高伴随着酸含量降低，铜含量降低则伴随着酸含量升高。结合现场生产经验发现，溶铜罐中铜含量越高，酸含量越低，毛刺越明显。一般情况下，酸含量低于 20 g/L 时就容易出现毛刺缺陷。这主要是因为溶铜罐中铜料多而酸不足时，在罐内温度高(一般浸泡式溶铜温度在80 ~ 90 °C，喷淋式溶铜温度在 65 ~ 75 °C)的情况下，空气在溶铜罐内的溶解极微，溶液缺氧导致铜料氧化不充分，无法与硫酸充分反应，溶铜罐内容易生成大量铜粉和 Cu+ [4]。一方面，随着铜箔沉积层增厚， 附着于阴极表面的铜粉夹杂在铜层中形成铜刺；另一方面，Cu+与 Cl−结合生成的氯化亚铜沉淀也容易夹杂在铜箔中而形成毛刺。上海高温延展性铜箔分切双面光电解铜箔是一种用电解法生产的两面均为光洁面的铜箔。
在选购铜箔时要注意的问题：选购铜箔要学会利用自己的权利，购买产品时要向经营者索要产品的简要技术参数、使用措施、使用条件（时限）的说明，付钱时别忘了索取购物发票或其它有效的购物证明，要写清楚所购零配件的品种、名称、数量、价格。五、依法维护自身合法权益，产品使用后要保管好标签、产品说明书和发票，以备出现问题时用于检验和鉴定。产品使用后出现质量问题，应做好记录，保护现场和证据，及时与经营者联系、更换产品或者向当地工商、质监等部门投诉。
电解铜箔是指以铜料为主要原料，采用电解法生产的金属铜箔。将铜料溶解后制成硫酸铜电解溶液，然后在专门使用电解设备中将硫酸铜电解液通过直流电电沉积而制成箔，再对其进行表面粗化、防氧化处理等一系列处理，较后经分切检测后制成成品。从分类上来看，根据应用领域的不同，电解铜箔可以分为锂电铜箔以及标准铜箔；根据铜箔厚度的不同，可以分为极薄铜箔、较薄铜箔、薄铜箔、常规铜箔和厚铜箔；根据表面状况不同可以分为双面光铜箔、双面毛铜箔、双面粗铜箔、单面毛铜箔和较低轮廓铜箔（VLP铜箔）。在制造工艺相同的条件下, 铜箔厚度越薄, 制作的线路精度越高。
电解铜箔生产的方法中铜溶解过程：原理：将处理好的铜料加入到溶铜槽内，铜料的表面积越大越好，铜料之间要有较小的缝隙，以增大反应面积。加入一定数量的纯水和硫酸后，通入压缩空气进行氧化化合反应，生成硫酸铜溶液。其化学反应式为：2Cu+2H2SO4+O2=2CuSO4+2H2O。该反应属固-液、固-气、液-气多相反应。反应速度与槽内铜料的总表面积有关，表面积越大，反应速度加快。其次与风量有关，风量增加，反应速度也加快。制箔原料要求：铜箔厚度越薄，质量档次越高，要求电解液中的杂质含量越低。为了保证铜箔质量，铜材的纯度必须大于99.9%。电解铜箔毛面毛刺产生是因为电解液中氯离子含量过高。上海双光锂电铜箔主要用途
铜箔是锂离子电池及印制电路板中关键性的导电材料。四川双导铜箔特点
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