深度确定电路208被配置为从检测器206接收图像获取数据，并且基于参考平面确定横跨物体表面上的多个点的一个或多个空间测量结果。可以基于投射到物体上的光图案的扭曲计算得出这些测量结果。这种图像处理可以使用本行业的公知技术，例如，标准测距或三角测量方法。在一些实施例中，光驱动器电路210被包括在光投影仪系统102中并且被配置为控制光源202的操作。因此，光驱动器电路210可以被配置为向光源202提供功率，更具体地控制应用于光源202的功率的占空比。在一些实施例中，深圳菲涅尔透镜 vr，深圳菲涅尔透镜 vr，深度确定电路208可以向源驱动器电路210提供信号，深圳菲涅尔透镜 vr，以改变光源202的操作方式。例如，如果深度确定电路208发现接收图像太模糊而无法做出有意义的确定，则其可以向源驱动器电路210提供信号以增大光源202的功率输出或占空比。可以提供处理器212以执行数字重建3d物体所需要的任何附加计算。处理器212可以是任何通用处理设备或微控制器，如根据本公开将明白的。在一些实施例中，处理器212被配置为将数字重建的3d物体存储在存储器(未示出)中。所存储的数字3d物体可以用类型、位置、尺寸、或任何其他符合条件的因素进行索引。所存储的3d数字物体可以被诸如图像识别软件之类的各种应用使用。菲涅尔透镜测试故障维修。深圳菲涅尔透镜 vr

并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。深圳菲涅尔透镜作用菲涅尔透镜作用技术指导。

并且可以在z方向上具有大约500μm到2mm之间的任意厚度。于在***多个vcsel402和第二多个vcsel404内可以存在任意数目的vcsel结构。应该注意的是，所示出的尺寸不是按比例画出的，*出于清楚的目的而提供的。例如，衬底302被示出为具有类似于vcsel402或404中的每个vcsel的厚度的厚度(z轴方向上的尺寸)。但是，衬底302可以比其他层更厚，例如，具有50μm到950μm的厚度或者任何其他适当厚度，如根据本公开将明白的。根据实施例，***多个vcsel402中的每个vcsel的孔径宽度(d1，类似于直径)不同于第二多个vcsel404中的每个vcsel的孔径宽度(d2)。通过改变孔径宽度，横向激光模式的数目也随着主导的横向激光模式的峰值波长一起改变。换言之，具有相同孔径宽度的每组vcsel产生它们自己的斑点图案，因为斑点图案取决于照明光的波长。在图4所示的示例中，***多个vcsel402将产生***斑点图案，而第二多个vcsel404将产生不同的第二斑点图案。斑点减少基于对检测器的空间和时间分辨率内的n个**斑点配置进行平均。例如，在所有n个**斑点配置具有相等的平均强度的情况下，斑点噪声被减少因子由于斑点图案取决于照明光的波长，所以在由该表面创建的平均相对相移≥2π的情况下。

每个亚波长结构具有大约λ/2的厚度，其中，λ是该vcsel结构的峰值输出波长。示例30包括示例23至29中任一项的主题，还包括在衬底的表面上的多个vcsel结构，其中，多个vcsel结构中的每个vcsel结构包括多个亚波长结构。示例31包括示例23至30中任一项的主题，其中，多个亚波长结构包括具有基部和顶部的至少一个亚波长结构，其中，基部比顶部宽。示例32包括示例23至31中任一项的主题，其中，多个亚波长结构包括具有基部和顶部的至少一个亚波长结构，其中，基部比顶部窄。示例33是一种布置在光学设备上的亚波长结构。该亚波长结构包括芯材和在芯材的一个或多个表面上的壳材。芯材具有***折射率并且具有比光源的峰值输出波长小的尺寸。壳材具有大于***折射率的第二折射率。示例34包括示例33的主题，其中，芯材是圆柱状结构。示例35包括示例34的主题，其中，芯材和壳材具有在λ/10到λ/5之间的直径，其中，λ是光源的峰值输出波长。示例36包括示例33至35中任一项的主题，其中，壳材具有小于5nm的厚度。示例37包括示例33至36中任一项的主题，其中，壳材包括氧化钛，并且芯材包括氮化硅。示例38包括示例33至37中任一项的主题，其中，壳材*在芯材的侧壁上。菲涅尔透镜模具24小时服务客服电话。

因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是，为了清楚起见*示出了单个元原子，但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状，但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如，元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地，元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如，元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料，因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻，以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806，并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。例如。菲涅尔透镜投影仪生产厂家电话多少？深圳菲涅尔透镜片

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菲涅尔透镜基本工作原理十分简单：假设一个透镜的折射能量只只发生在光学表面（如：透镜表面），拿掉尽可能多的光学材料，而保留表面的弯曲度。另外一种理解就是，透镜连续表面部分“坍陷”到一个平面上。从剖面看，其表面由一系列锯齿型凹槽组成，中心部分是椭圆型弧线。每个凹槽都与相邻凹槽之间角度不同，但都将光线集中一处，形成中心焦点，也就是透镜的焦点。每个凹槽都可以看做一个单独的小透镜，把光线调整成平行光或聚光。这种透镜还能够消除部分球形像差。深圳菲涅尔透镜 vr

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