三极管基极有电流流动时；由于B极和E极之间有正向电压，所以电子从发射极向基极移动，又因为C极和E极间施加了反向电压，因此，从发射极向基极移动的电子，在高电压的作用下，通过基极进入集电极。于是，在基极所加的正电压的作用下，发射极的大量电子被输送到集电极，产生很大的集电极电流。基极无电流流动时；在B极和E极之间不能施加电压的状态时，由于C极和E极间施加了反向电压，所以集电极的电子受电源正电压吸引而在C极和E极之间产生空间电荷区，阻碍了从发射极向集电极的电子流动，台州晶体三极管命名，因而就没有集电极电流产生，台州晶体三极管命名，台州晶体三极管命名。晶体三极管，是半导体基本元器件之一，也是电子电路的元件。台州晶体三极管命名

三极管的工作原理：是输出信号范围的要求，如果没有加偏置，那么只有对那些增加的信号放大，而对减小的信号无效(因为没有偏置时集电极电流为0，不能再减小了)。而加上偏置，事先让集电极有一定的电流，当输入的基极电流变小时，集电极电流就可以减小;当输入的基极电流增大时，集电极电流就增大。这样减小的信号和增大的信号都可以被放大了。因为发射区多子浓度高，使大量电子从发射区扩散到基区，扩散运动形成发射极电流 ；因为基区薄且多子浓度低，使极少数扩散到基区的电子与空穴复合，复合运动形成基极电流 ；因为集电区面积大，在外电场作用下大部分扩散到基区的电子漂移到集电区，漂移运动形成集电极电流 。台州晶体三极管命名三极管产品参数VCEO集电极发射极反向击穿电压，表示临界饱和时的饱和电压。

在制造三极管时，有意识地使发射区的多数载流子浓度大于基区的，同时基区做得很薄，而且，要严格控制杂质含量，这样，一旦接通电源后，由于发射结正偏，发射区的多数载流子（电子）及基区的多数载流子（空穴）很容易地越过发射结互相向对方扩散，但因前者的浓度基大于后者，所以通过发射结的电流基本上是电子流，这股电子流称为发射极电子流。由于基区很薄，加上集电结的反偏，注入基区的电子大部分越过集电结进入集电区而形成集电极电流Icn，只剩下很少（1-10%）的电子在基区的空穴进行复合，被复合掉的基区空穴由基极电源Eb重新补给，从而形成了基极电流Ibn。

三极管的工作状态：饱和导通当加在三极管发射结的电压大于PN结的导通电压，并当基极电流增大到一定程度时，集电极电流不再随着基极电流的增大而增大，而是处于某一定值附近不怎么变化，这时三极管失去电流放大作用，集电极与发射极之间的电压很小，集电极和发射极之间相当于开关的导通状态。三极管的这种状态我们称之为饱和导通状态。根据三极管工作时各个电极的电位高低，就能判别三极管的工作状态，因此，电子维修人员在维修过程中，经常要拿多用电表测量三极管各脚的电压，从而判别三极管的工作情况和工作状态。三极管基本的和重要的特性。

共基极放大电路共基极放大器的应用较前两种放大器要少得多。是一种典型的共基极放大器。在该放大器内，VT是放大管，C1是输入信号耦合电容，C2是输出信号耦合电容，C3是基极的交流接地电容，R1、R2是VT基极的直流偏置电阻，R3是VT的集电极负载电阻，R4是VT的发射极电阻，VCC是供电电压，Ui是输入信号，Uo是输出信号。直流偏置电源电压VCC不通过R3加到VT的集电极，为它供电，而且通过R1、R2分压后，加到VT的基极，为基极提供直流偏置电压，Ub≈VCCR2/（R1+R2）。流过R1的电流分两路到地：一路是通过R2到地，另一路是通过VT的发射结、R4到地。三极管按材质分: 硅管、锗管。台州晶体三极管命名

两个PN结把整块半导体分成三部分，中间部分是基区。台州晶体三极管命名

晶体三极管（以下简称三极管）按材料分有两种：锗管和硅管。而每一种又有NPN和PNP两种结构形式，但使用多的是硅NPN和锗PNP两种三极管，（其中，N是负极的意思（英文中Negative），N型半导体在高纯度硅中加入磷取代一些硅原子，在电压刺激下产生自由电子导电，而P是正极的意思（Positive）是加入硼取代硅，产生大量空穴利于导电）。两者除了电源极性不同外，其工作原理都是相同的对于NPN管，它是由2块N型半导体中间夹着一块P型半导体所组成，发射区与基区之间形成的PN结称为发射结，而集电区与基区形成的PN结称为集电结，三条引线分别称为发射极e （Emitter）、基极b (Base)和集电极c (Collector)。台州晶体三极管命名

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